[发明专利]一种调控溴氧铋暴露晶面的方法有效
| 申请号： | 201610163631.4 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN105836799B | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 陈嵘;丁杰;杨浩;赵慧平;程刚 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | C01G29/00 | 分类号： | C01G29/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 调控 溴氧铋 暴露 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种调控溴氧铋暴露晶面的方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)将硝酸铋溶解于甘露醇水溶液中，然后加入溴化钠水溶液，进行超声分散，得均匀的白色悬浊液；
2)将所得白色悬浊液转入密闭的反应釜中，加热至180～200℃恒温反应3～24h，反应结束后，将所得产物进行离心分离、洗涤和干燥，通过调控恒温反应时间，可以得到不同暴露晶面的溴氧铋纳米片状材料；
所述硝酸铋与甘露醇的摩尔比为1:(1.25～12.5)。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2)中所述恒温反应时间为3～6h，得主要暴露晶面为(001)面的溴氧铋纳米片状材料。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2)中所述恒温反应时间为12～24h，得主要暴露晶面为(010)面的溴氧铋纳米片状材料。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硝酸铋与溴化钠的添加量分别以其引入的铋离子和溴离子为准，其中铋离子与溴离子的摩尔比为1:1。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述甘露醇水溶液的浓度为0.1～0.5mol/L。
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