[发明专利]掩膜板检测用带背光多功能吸盘装置在审
申请号: | 201610169973.7 | 申请日: | 2016-03-23 |
公开(公告)号: | CN105739235A | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 陈新宏 | 申请(专利权)人: | 常州鸿开电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 路接洲 |
地址: | 213002 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 检测 背光 多功能 吸盘 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于掩膜板光刻检测的带背光多功能吸盘装置。
背景技术
吸盘装置是半导体光刻检测设备中用于吸附固定掩模板或硅片,以便对其进行初步定位,保证在光刻检测过程中,掩模板能随工件台以正确的路线和速度移动,并准确到达设定的位置。常用的吸盘装置一般都是只能吸附一种尺寸规格的掩模板,不同尺寸规格的掩模板则需要更换不同规格的吸盘装置才能使用。另外,常用的吸盘装置都不带背光结构,对部分掩模板或硅片无法实现实时检测,或者使得检测质量大幅下降。而目前半导体光刻检测行业发展的实际状况是小批量、多样化生产及多种检测要求等逐渐增多,需要能够在同一套吸盘装置上对多种不同尺寸规格和特殊背光要求的掩模板进行光刻检测。而相关光刻检测设备价值不菲,在实际光刻检测生产过程中,设备的调试过程和调整工艺复杂而繁琐,如果一套吸盘装置只能对应一种尺寸规格或要求的掩模板或硅片,将给实际光刻检测生产加工带来很大困扰,并且将严重降低生产加工效率。并且频繁的部件更换还会给光刻检测设备带来不同程度的损害。因此迫切需要一种能够适应多种尺寸规格掩模板检测需要且具有背光的吸盘装置。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:克服现有技术中之不足,提供一种掩膜板检测用带背光多功能吸盘装置,既能有效可靠吸附掩模板,提供必要的背景光需求,满足掩模板加工或检测工艺条件,又能非常便捷开闭背光源和可靠地更换不同规格的掩模板。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种掩膜板检测用带背光多功能吸盘装置,具有底板,所述的底板两端分别设有定位侧板,位于所述定位侧板之间的底板上相距设有:一对可作相近或相远移动而吸附住待检测掩膜板的吸盘体,所述吸盘体之间的底板上设有背光源,吸盘体内设有气体通道,吸盘体侧面连接有若干个与气体通道相通的气接头,搁置掩膜板处的吸盘体上表面具有与气体通道相通的长凹槽,所述的定位侧板上设有从吸盘体两端将已定位好位置的吸盘体夹紧固定的紧固旋钮。
具体说,所述的底板上位于吸盘体两端分设有直线导轨,吸盘体底面与直线导轨滑动连接。
为方便不同规格掩膜板的定位,所述的定位侧板上开设有对应不同规格掩膜板的限位孔,吸盘体两端具有与所述限位孔对应的凹坑,限位孔内设有卡入凹坑而定位吸盘体的限位销。
进一步地,所述的定位侧板上对应限位孔位置具有长槽孔,紧固旋钮通过长槽孔与吸盘体两端螺纹连接而将吸盘体固定。
为更好地定位掩膜板,所述的吸盘体上位于长凹槽两端设有通过位置移动而定位不同规格掩膜板的定位挡销。
所述的吸盘体上位于长凹槽外侧设有确保吸盘体上表面气体通道密封性的吸盘盖。
本发明的有益效果是:本发明通过两个相距设置的吸盘体在底板上作相远或相近的移动,满足了不同尺寸规格掩模板或硅片光刻检测的定位要求,而设置在两个吸盘体之间的背光源,可以为掩模板检测过程提供背景光照明,便于掩模板实时清晰的检测要求,从而实现了真空吸附不同规格掩膜板或硅片的目的,减少了诸如更换机台或零部件以及安装调整的麻烦,也解决了因为缺少背光导致的检测失败难题,节省了作业时间,提高了检测效率和检测质量。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
图中1.底板2.定位侧板3.吸盘体4.背光源5.气接头6.长凹槽7.紧固旋钮8.直线导轨9.限位孔10.限位销11.长槽孔12.定位挡销13.吸盘盖
具体实施方式
现在结合附图和优选实施例对本发明作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示的一种掩膜板检测用带背光多功能吸盘装置,具有底板1,所述的底板1两端分别固定有定位侧板2,位于所述定位侧板2之间的底板1上相距设有一对吸盘体3,所述吸盘体3垂直定位侧板2且对称于底板1中心设置,底板1上位于吸盘体3两端分固定有直线导轨8,吸盘体3底面与直线导轨8滑动连接,从而使得吸盘体3在直线导轨8可作相近或相远的移动,以吸附住不同规格的待检测掩膜板,位于吸盘体3之间的底板1上通过螺钉固定有检测时发光的背光源4,保证相关光刻检测采图的可靠稳定与可行性。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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