[发明专利]一种贵金属修饰的具有氧空位的(001)晶面氟硼共掺杂TiO2纳米片的制备方法有效
| 申请号： | 201610170057.5 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN105817238B | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 虎号;纵榜峰 | 申请（专利权）人： | 宿州学院 |
| 主分类号： | B01J27/13 | 分类号： | B01J27/13;B01J27/12;B01J35/02;C02F1/30;C02F101/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 234000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 贵金属 修饰 有氧 空位 001 晶面氟硼共 掺杂 tio sub 纳米 制备 方法 | ||
【说明书】：
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