[发明专利]一种耐高温抗烧蚀TiB2-MoSi2复合涂层及其制备方法在审
申请号: | 201610172113.9 | 申请日: | 2016-03-24 |
公开(公告)号: | CN105695917A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 黄利平;牛亚然;郑学斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;C23C4/134 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐高温 抗烧蚀 tib sub mosi 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐高温抗烧蚀TiB2-MoSi2复合涂层,其特征在于,所述TiB2-MoSi2复合涂层由主相TiB2和第二相MoSi2组成,所述第二相MoSi2体积含量为涂层总体积含量10~50vol.%。
2.根据权利要求1所述耐高温抗烧蚀的TiB2-MoSi2复合涂层,其特征在于,所述TiB2-MoSi2复合涂层的厚度为40~200μm。
3.一种如权利要求1或2所述耐高温抗烧蚀TiB2-MoSi2复合涂层的制备方法,其特征在于,包括:
按照TiB2-MoSi2复合涂层的组成,分别称取TiB2粉体和MoSi2粉体,混合均匀并干燥后,得到原料粉体;
采用真空等离子体喷涂工艺,将原料粉体喷涂到预处理后的基体表面上,得到所述TiB2-MoSi2复合涂层。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述TiB2粉体的粒径为5~80μm。
5.根据权利要求3或4所述的制备方法,其特征在于,所述MoSi2粉体的粒径为5~80μm。
6.根据权利要求3-5中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述真空等离子体喷涂工艺的参数包括:等离子体气体Ar流量为25~45slpm,等离子体气体H2流量为2~20slpm,粉末载气Ar流量为2~10slpm,喷涂距离为130~380mm,喷涂电流为350~750A,喷涂电压为40~75V,送粉速率为5~35g/分钟,真空室压力为50~800mbar。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
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C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
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