[发明专利]增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法在审
申请号: | 201610172884.8 | 申请日: | 2016-03-24 |
公开(公告)号: | CN105759477A | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 金姬;孟庆勇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 增加 薄膜 粘附 制备 方法 显示 及其 制造 | ||
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法。
背景技术
液晶显示装置中,有机膜通常设置在源漏金属层与第一透明导电层(1STITO)之间,作为隔离膜层,增加面板整体的平坦度并减小耦合电容,但有机膜与衬底粘附力比较弱,在后期测试试验中易出现面板自有机膜位置分离的问题。为增加有机膜粘附力,现有技术一般采用方法如图1所示的方案,在面板边缘开槽,但保留部分条状以支撑盒厚,例如将图中的②④⑥区域的有机膜挖开形成凹槽,③⑤⑦区域的有机膜保留,①为显示区域(AA区域)的边缘;然后,在凹槽处涂覆封框胶,进行对盒,该方案的缺点是有机膜膜层较厚,周边挖槽后会使周边盒厚不均匀,影响显示效果。
发明内容
本发明提供一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法,解决了现有液晶显示装置中有机膜粘附力差、盒厚不均匀的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例提供一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法,包括:在衬底材料上形成下宽上窄的沟槽或孔洞,或者直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料;在形成有所述沟槽或孔洞的衬底材料上沉积薄膜材料,形成薄膜,所述薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。
可选地,所述衬底材料包括基底和设置在所述基底上的第一薄膜,所述第一薄膜上设置有所述沟槽或孔洞。
可选地,所述直接形成具有所述沟槽或孔洞的衬底材料,包括:在基底上涂覆光刻胶,通过曝光、显影形成凸起结构,所述突起结构下宽上窄,与所述沟槽或孔洞相对应;在形成有所述突起结构的基底上形成第一薄膜,并通过曝光、显影去除所述突起结构及其上方的第一薄膜,形成所述沟槽或孔洞。
本发明实施例还提供一种显示基板,包括:基底;形成于所述基底上的第一薄膜,所述第一薄膜上设置有下宽上窄的沟槽或孔洞;形成于所述第一薄膜上的第二薄膜,所述第二薄膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中。
可选地,所述显示基板为阵列基板。
可选地,所述第一薄膜包括栅绝缘膜,所述第二薄膜为有机膜。
可选地,所述沟槽或孔洞位于所述显示基板的周边区域。
本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法,包括:在基底上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层和源漏金属层,所述栅绝缘层形成有下宽上窄的沟槽或孔洞;形成有机膜,所述有机膜的一部分嵌入所述沟槽或孔洞中;形成第一电极、钝化层和第二电极。
可选地,在基底上形成栅金属层、栅绝缘层、有源层和源漏金属层,所述栅绝缘层形成有下宽上窄的沟槽或孔洞,包括:在基底上形成栅金属层,并通过构图工艺形成栅金属层图形;在形成有栅金属层图形的基底上涂覆光刻胶,并通过曝光、显影形成凸起结构,所述突起结构下宽上窄,与所述沟槽或孔洞相对应;在形成有所述突起结构的基底上形成栅绝缘层,并通过曝光、显影去除所述突起结构及其上方的栅绝缘层薄膜,在所述栅绝缘层上形成所述沟槽或孔洞。
可选地,所述沟槽或孔洞位于所述显示基板的周边区域。
本发明提供一种增加薄膜粘附力的薄膜制备方法、显示基板及其制造方法,衬底材料上存在形成下宽上窄的沟槽或孔洞,然后在其上沉积薄膜材料,形成薄膜的一部分会嵌入上述沟槽或孔洞中,可以增加薄膜粘附力。该种方案用于液晶显示装置中时,可以将有机膜的一部分以镶嵌形式固定到衬底材料(此处指有机膜下方的各膜层)上,可以解决现有液晶显示装置中有机膜粘附力差、盒厚不均匀的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为现有显示基板的平面示意图;
图2为本发明实施例薄膜制备方法的原理示意图;
图3为本发明实施例提供的形成下宽上窄的沟槽或孔洞的方法示意图;
图4为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图;
图5为本发明实施例提供的一种沟槽或孔洞的分布位置示意图;
图6为本发明实施例提供的一种阵列基板的工艺流程图;
图7为本发明实施例提供的栅绝缘层上沟槽或孔洞的形成方法示意图。
附图标记
100-衬底材料,111-沟槽,112-孔洞,200-薄膜,101-基底,102-第一薄膜,
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610172884.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:液晶显示器
- 下一篇:一种VA型液晶显示器定向摩擦深度的检测方法