[发明专利]AMOLED显示面板线缺陷的修复结构及修复方法

权利要求书

1.一种AMOLED显示面板线缺陷的修复结构，其特征在于，包括：AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路；

所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线(100)、与信号线(100)一一对应相连的多条信号扇出线(200)、与信号线(100)一一对应相连的多个测试TFT(310)、与所有测试TFT(310)相连的一测试控制线(320)、及数条测试线(330)；所述测试TFT(310)包括栅极、源极(312)、有源层(313)、及漏极(314)；所有测试TFT(310)的栅极由所述测试控制线(320)充当，一测试TFT(310)的漏极(314)对应与一信号线(100)相连，一测试线(330)对应与部分测试TFT(310)的源极(312)相连；

所述修复线路包括多块导电薄膜(410)、及数条修复导线(420)；所述导电薄膜(410)的数量与测试TFT(310)的数量对等，一导电薄膜(410)对应层叠覆盖于一测试TFT(310)上方并与该测试TFT(310)绝缘；所述修复导线(420)的数量与测试线(330)的数量对等，一修复导线(420)与所有的信号扇出线(200)、及一对应的测试线(330)绝缘交叉。

2.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构，其特征在于，所述信号线(100)为显示面板的数据线或扫描线。

3.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构，其特征在于，所述测试TFT(310)的源极(312)、及漏极(314)与信号线(100)位于同一层。

4.如权利要求2所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构，其特征在于，所有的负责测试同一颜色像素的测试TFT(310)的源极(312)对应与一测试线(330)相连。

5.如权利要求1所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复结构，其特征在于，所述导电薄膜(410)的材料为透明的ITO，所述修复导线(420)的材料为导电金属。

6.一种AMOLED显示面板线缺陷的修复方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一AMOLED显示面板；

所述AMOLED显示面板包括：AMOLED显示面板检测线路、及直接嫁接在所述AMOLED显示面板检测线路上的修复线路；

所述AMOLED显示面板检测线路包括多条信号线(100)、与信号线(100)一一对应相连的多条信号扇出线(200)、与信号线(100)一一对应相连的多个测试TFT(310)、与所有测试TFT(310)相连的一测试控制线(320)、及数条测试线(330)；所述测试TFT(310)包括栅极、源极(312)、有源层(313)、及漏极(314)；所有测试TFT(310)的栅极由所述测试控制线(320)充当，一测试TFT(310)的漏极(314)对应与一信号线(100)相连，一测试线(330)对应与部分测试TFT(310)的源极(312)相连；

所述修复线路包括多块导电薄膜(410)、及数条修复导线(420)；所述导电薄膜(410)的数量与测试TFT(310)的数量对等，一导电薄膜(410)对应层叠覆盖于一测试TFT(310)上方并与该测试TFT(310)绝缘；所述修复导线(420)的数量与测试线(330)的数量对等，一修复导线(420)与所有的信号扇出线(200)、及一对应的测试线(330)绝缘交叉；

步骤2、当某一信号线(100)产生线缺陷，将该信号线(100)位于缺陷点两侧的部分进行激光切断，该信号线(100)原本与对应的信号扇出线(200)相连的部分继续正常工作；

步骤3、将与该出现线缺陷的信号线(100)对应相连的测试TFT(310)的源极(312)、漏极(314)分别和位于该测试TFT(310)上方的导电薄膜(410)进行激光熔接，将与该测试TFT(310)的源极(312)相连的测试线(330)和对应与该测试线(330)绝缘交叉的修复导线(420)进行激光熔接，将该修复导线(420)和对应相连出现线缺陷的信号线(100)的信号扇出线(200)的绝缘交叉点进行激光熔接，使该信号线(100)原本与对应的测试TFT(310)相连的部分继续正常工作。

7.如权利要求6所述的AMOLED显示面板线缺陷的修复方法，其特征在于，所述信号线(100)为显示面板的数据线或扫描线。