[发明专利]一种氮掺杂二氧化钛薄膜材料的制备方法有效
申请号: | 201610180065.8 | 申请日: | 2016-03-25 |
公开(公告)号: | CN105671486B | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 丁万昱;刘金东 | 申请(专利权)人: | 大连交通大学 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/48;C23C14/58 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 赵淑梅;李馨 |
地址: | 116028 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掺杂 氧化 薄膜 材料 制备 方法 | ||
1.一种氮掺杂二氧化钛薄膜材料的制备方法,其特征在于:所述制备方法为利用氮离子束将氮元素掺杂注入二氧化钛薄膜表面,得到氮掺杂二氧化钛薄膜材料;
产生所述氮离子束的离子源阳极电压为500-3500 V;
所述氮离子束垂直于二氧化钛薄膜表面;
所述二氧化钛薄膜的晶体结构为非晶、多晶或非晶与多晶的混合。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述掺杂注入的温度为室温。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述氮离子束与二氧化钛薄膜表面的距离为5-15 cm。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述掺杂注入的时间为5-20 min。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:产生所述氮离子束的离子源功率密度为0.5-4.0 W/cm2。
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