[发明专利]一种用于樱花树施肥的装置在审

专利信息
申请号: 201610181174.1 申请日: 2016-03-28
公开(公告)号: CN105746065A 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 青学刚;刘俊呈 申请(专利权)人: 四川冠腾科技有限公司
主分类号: A01C23/02 分类号: A01C23/02
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 晏辉
地址: 610509 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 樱花 施肥 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于林业领域,具体涉及一种用于樱花树施肥的装置。

背景技术

樱花树属于落叶小乔木,国内普遍有早樱、晚樱,垂枝樱,云南樱等品种,晚樱在国内种植及园林绿化中运用比较广泛。产地浙江、安徽、江苏、四川、山东、河南等,樱花是早春重要的观花树种,被广泛用于园林观赏。樱花可以群植成林,也可植于山坡、庭院、路边、建筑物前。

性喜温暖、湿润偏于的环境。要求充足的阳光,不耐阴湿,不耐盐碱,忌水涝,耐寒,耐旱,花期怕大风和烟尘。适宜在疏松、肥沃、排水良好的微酸性或中性的沙质壤土中生长。

光照与温度生长适宜温度18-20℃无论地栽还是盆栽,均应置于阳光充足的地方。冬季盆栽樱花入室后应放在背风、向阳、光线好的地方,否则生长不良。中原地带可露地安全越冬,北京地区幼曲及新植苗木需采取防寒措施,逐渐适应,栽植小环境要有一定的湿度,这样对樱花的正常生长发育有好处。当新植植株生长发育稳定后,对低温的适应性也逐渐增强,即抗寒性增强。

樱花树施肥一般采用挖坑深埋的方法,挖坑深埋不仅费时费力,还容易破坏植物根系。而且深埋有机肥时,如果遇上大雨,有机肥中的有机质容易被地下水带走,导致肥效降低。

发明内容

本发明目的是提供一种用于樱花树施肥的装置,解决了现有的樱花树施肥时需要挖坑费时费力,容易破坏根系和有机肥容易被雨水带走的问题。

本发明的技术方案为:一种用于樱花树施肥的装置,包括盒体和立管,所述立管从盒体顶部插入到盒体底部,盒体上表面开有溢水孔。

进一步地,所述盒体为矩形盒体,所述立管位于盒体的中央。

进一步地,所述溢水孔为圆形孔,孔径为0.5-1cm。

进一步地,所述盒体为金属盒体,盒体表面涂覆有环氧粉末涂层,所述立管为PP管。

进一步地,所述盒体和立管均为聚四氟乙烯材质。

进一步地,立管的内径为5-10cm。

进一步地,所述立管顶部为漏斗形。

使用时,将有机肥放入盒体中,将盒体埋入樱花树下,需要施肥时,从立管顶部注入水,水进入盒体后浸泡有机肥,有机质水溶液从盒体顶部的溢水孔流出进入土壤。从而实现樱花树的施肥并能通过注水量来控制施肥量,还能避免有机肥中的有机质被雨水带走,需要补充有机肥时,可以从立管顶部加入,避免了再次挖坑导致费时费力和破坏植物根系。

本发明与现有技术相比具有如下优点:

本发明的樱花树施肥装置结构简单,方便实用,可以长期为樱花树提供持续的肥料。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本装置的俯视图;

图中附图标记为:1-盒体,2-立管,3-溢水孔。

具体实施方式

实施例1

如图1和图2所示,一种用于樱花树施肥的装置,包括盒体1和立管2,所述立管2从盒体1顶部插入到盒体1底部,盒体1上表面开有溢水孔3。所述盒体1为矩形盒体,所述立管2位于盒体1的中央。所述溢水孔3为圆形孔,孔径为0.5cm。

实施例2

如图1和图2所示,一种用于樱花树施肥的装置,包括盒体1和立管2,所述立管2从盒体1顶部插入到盒体1底部,盒体1上表面开有溢水孔3。所述盒体1为矩形盒体,所述立管2位于盒体1的中央。所述溢水孔3为圆形孔,孔径为1cm。所述盒体1为金属盒体,盒体1表面涂覆有环氧粉末涂层,提高盒体1耐腐蚀的能力,提高使用寿命,所述立管2为PP管。

实施例3

如图1和图2所示,一种用于樱花树施肥的装置,包括盒体1和立管2,所述立管2从盒体1顶部插入到盒体1底部,盒体1上表面开有溢水孔3。所述盒体1为矩形盒体,所述立管2位于盒体1的中央。所述溢水孔3为圆形孔,孔径为1cm。所述盒体1和立管2均为聚四氟乙烯材质。聚四氟乙烯具有很强的耐腐蚀能力,提高使用寿命。

实施例3

如图1和图2所示,一种用于樱花树施肥的装置,包括盒体1和立管2,所述立管2从盒体1顶部插入到盒体1底部,盒体1上表面开有溢水孔3。所述盒体1为矩形盒体,所述立管2位于盒体1的中央。所述溢水孔3为圆形孔,孔径为1cm。所述盒体1和立管2均为聚四氟乙烯材质。聚四氟乙烯具有很强的耐腐蚀能力,提高使用寿命。立管2的内径为5-10cm,立管2顶部为漏斗形。便于加水和加肥。

以上所述实施例仅表达了本申请的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本申请保护范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请技术方案构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。

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