[发明专利]扇出线结构、显示面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种扇出线结构、包括该扇出线结构的显示 面板及其制造方法。

背景技术

显示面板包括TFT阵列以及用于驱动TFT阵列的驱动电路模块（例如设置驱动IC的 驱动电路板），为实现将驱动电路模块的信号输出对应施加在TFT阵列中的相应信号线（例 如数据线或栅线）上，需要使用连接导线从驱动电路模块的某一输出引脚对应连接至TFT阵 列的某一信号线上。按照常规的驱动电路模块和TFT阵列设置，驱动电路模块的多个输出引 脚是相对集中排列而TFT阵列的多条信号线相对分散排列，采用以上多条连接导线时会在 驱动电路模块与TFT阵列之间形成类似“扇形”结构，因此，通常称该连接导线为“扇出线”， 扇出线的设置区域则称为“扇出区（Fan-outArea）”。

然而，从驱动电路模块的输出引脚到TFT阵列的信号线距离是不一致的，必然会导 致扇出线的长度相差较大，因此容易导致扇出区的多条扇出线之间的阻抗不均匀，这种阻 抗不均匀会影响显示面板的显示效果，是需要尽量避免的。

现有技术中，为实现不同扇出线之间的阻抗尽量均一化，采用对长度较短的扇出 线采用绕线设计的方式来增加其阻抗，但是，这种方法需要增加用于绕线的区域，容易导致 扇出区的整体宽度的增加，这种扇出区的整体宽度是会体现在使用该显示面板的显示器的 边框尺寸上，因此，扇出区的整体宽度的增加是非常不利于窄边框显示器的开发和设计的。

发明内容

本发明的目的在于，实现扇出线结构的扇出线之间的阻抗均匀化。

为实现以上目的或者其他目的，本发明提供以下技术方案。

按照本发明的一方面，提供一种扇出线结构，其包括多条长度不一的扇出线；

每条所述扇出线均包括布线层；

至少部分所述扇出线的所述布线层之上设置有与布线层电连接的附加导电膜；

多条所述扇出线的阻抗相同。

根据本发明一实施例的扇出线结构，其中，不同长度的所述布线层的阻抗不同。

根据本发明一实施例的扇出线结构，其中，多条所述扇出线中，除长度最短的布线 层外，其余多条所述扇出线中的布线层均设置有与布线层电连接的附加导电膜。

根据本发明又一实施例的扇出线结构，其中，多条所述扇出线中，每条所述布线层 均设置有与布线层电连接的附加导电膜。

在之前所述实施例的扇出线结构中，所述附加导电膜厚度及宽度一致。

根据本发明还一实施例的扇出线结构，其中，设置有所述附加导电膜的多条扇出 线中，设置在不同长度的所述布线层之上的附加导电膜的长度不同。

可选地，所述附加导电膜连续地或分段地设置在所述布线层之上。

可选地，所述附加导电膜材料与所述布线层材料相同。

可选地，所述附加导电膜材料与所述布线层材料不同，且附加导电膜材料电阻率 小于所述布线层材料的电阻率。

按照本发明的又一方面，提供一种显示面板，其包括驱动电路模块和TFT阵列，以 及以上所述及的任一种扇出线结构，所述扇出线结构用于连接驱动电路模块与TFT阵列。

按照本发明的还一方面，提供一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供预设有扇出区的衬底；

在预设的所述扇出区通过沉积形成第一导电层；

在所述第一导电膜表面形成第二导电层；以及

通过刻蚀第一导电层和第二导电层分别形成所述布线层和附加导电膜。

根据本发明又一实施例的制造方法，其中，通过刻蚀第一导电层和第二导电层分 别形成所述布线层和附加导电膜包括：

在所述第二导电层上涂覆光刻胶；

通过半色调掩膜板对所述光刻胶曝光显影，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留 区域以及光刻胶完全去除区域；

以所述光刻胶完全保留区域和光刻胶半保留区域的光刻胶为掩膜刻蚀所述第一导电 层和第二导电层以形成多条布线层；

对所述光刻胶完全保留区域和光刻胶半保留区域的光刻胶同时进行灰化处理以暴露 所述光刻胶半保留区域对应的部分第二导电层；

对暴露的所述部分第二导电层进行刻蚀以形成附加导电膜；以及

去除剩余的光刻胶。