[发明专利]流体检测装置在审
申请号: | 201610186901.3 | 申请日: | 2016-03-29 |
公开(公告)号: | CN107238573A | 公开(公告)日: | 2017-10-10 |
发明(设计)人: | 何思贤;魏嘉俊;陈宏维 | 申请(专利权)人: | 光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/05 | 分类号: | G01N21/05 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人: | 李昕巍,郑泰强 |
地址: | 510730 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 检测 装置 | ||
1.一种流体检测装置,包括:
至少一流道,包括一流道顶面和一流道底面,该流道顶面和该流道底面间具有一第一间距;
至少一槽室,与该至少一流道相连通,使一流体由该至少一流道流入该至少一槽室,并包括一槽室顶面、一槽室底面以及一流体充满区,至少有一部份的该流体充满区的该槽室顶面与对应的该槽室底面具有一第二间距,其中该第二间距小于该第一间距;以及
一通口,与该至少一槽室和外界连通。
2.如权利要求1所述的流体检测装置,其中在该流体充满区周围的该槽室顶面或/和该槽室底面形成一面,该面与该槽室顶面或/和该槽室底面之间形成一段差。
3.如权利要求2所述的流体检测装置,其中该槽室还包括一侧壁,连接至少该槽室顶面和该槽室底面之一,该侧壁与该流体充满区的周围有一间隔。
4.如权利要求1-3中的任一项所述的流体检测装置,其中至少有一部份的该流体充满区的该槽室顶面与对应的该槽室底面两者或之一具有一抛物球面。
5.一种流体检测装置,包括:
一试片本体,包括:
多个流道,各流道包括一流道顶面和一流道底面,该流道顶面和该流道底面间具有一第一间距;
多个槽室,与各对应的该多个流道相连通,使一流体由该等流道流入对应的该槽室,各槽室包括一槽室顶面、一槽室底面以及一流体充满区,至少有一部份的该流体充满区的该槽室顶面与对应的该槽室底面具有一第二间距,其中该第二间距小于该第一间距;以及
至少一个通口,与该多个槽室和外界连通。
6.如权利要求5所述的流体检测装置,其中各槽室在该流体充满区周围的该槽室顶面或/和该槽室底面形成一面,该面与该槽室顶面或/和该槽室底 面之间形成一段差。
7.如权利要求6所述的流体检测装置,其中各槽室还包括一侧壁,连接至少该槽室顶面和该槽室底面之一,该侧壁与该流体充满区的周围有一间隔。
8.如权利要求7所述的流体检测装置,其中各槽室至少有一部份的该流体充满区的该槽室顶面与对应的该槽室底面两者或之一具有一抛物球面。
9.如权利要求5-8中的任一项所述的流体检测装置,其中该试片本体还包括一流体容纳槽,设置于该试片本体的一端,用以置入该流体并与该多个流道相连通,该多个流道呈放射状排列设置,该多个槽室呈直线排列设置于该试片本体的另一端,其中该多个流道中长度较短的流道具有较小的宽度以及长度较长的流道具有较大的宽度,以使该流体置入该流体容纳槽后经由各流道同时到达对应的各槽室。
10.如权利要求9的所述的流体检测装置,其中该试片本体具有一第一片体和一第二片体,该第一片体及该第二片体位于该试片本体相对的两面,该多个流道和该多个槽室设置在该第一片体及该第二片体之间,该至少一个通口包括多个通口,设置在并连通于各对应的该多个槽室,其中:
该第一片体,包括多个槽室顶部及多个流道顶部,该多个槽室顶部分别与对应的该多个流道顶部之一相连接,各槽室顶部具有该槽室顶面并包括一第一流体充满形成件及一第一凹槽,该第一流体充满形成件从该第一片体中该流道顶部末端延伸形成并被第一凹槽环绕;以及
该第二片体,包括多个槽室底部及多个流道底部,该多个槽室底部分别与对应的该多个流道底部之一相连接,各槽室底部具有该槽室底面,
其中,各槽室顶部与各槽室底部形成各槽室,各流道顶部与各流道底部形成各流道,该第一流体充满形成件及对应的该槽室底部形成该流体充满区。
11.如权利要求10所述的流体检测装置,其中该第一凹槽凹设在该第一片体的内面并形成该侧壁与该流体充满区的周围的间隔,且该第一凹槽的壁与在该流体充满区周围的该槽室顶面之间形成一段差。
12.如权利要求11所述的流体检测装置,其中该第一流体充满形成件包括一柄状部及一本体,该柄状部与该流道顶部末端相接,该抛物球面形成在 该本体的内面。
13.如权利要求11所述的流体检测装置,其中该通口设置在该第一凹槽上或该第一凹槽是一穿槽。
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