[发明专利]靶系统和具有靶系统的用于产生中子和/或中微子的系统

权利要求书

1.一种靶系统，所述靶系统用于中子产生系统和中微子产生系统中的至少一个，所述靶系统包括：

用作靶体的固体颗粒，固体颗粒的粒径为0.1～0.5mm；

收集部件，所述收集部件用于收集固体颗粒，其中收集部件的底部具有开口；以及

用于调节该开口的大小的调节部件，固体颗粒位于收集部件的底部和调节部件构成的底壁上，

所述开口具有大致矩形的形状，

所述调节部件是推拉板，所述推拉板能够平移。

2.根据权利要求1所述的靶系统，其中

所述收集部件具有上部和大致漏斗状的下部，在大致水平的平面中，所述收集部件的下部具有大致矩形的截面形状，所述收集部件的下部的底部是开口的，以构成所述开口。

3.根据权利要求1所述的靶系统，其中

所述推拉板能够大致在所述开口的宽度方向上平移。

4.根据权利要求3所述的靶系统，其中

所述推拉板包括相对于在所述开口的长度方向上延伸的直线对称设置的成对的推拉板。

5.根据权利要求4所述的靶系统，其中

所述直线是在所述开口的长度方向上延伸的中心线。

6.根据权利要求1所述的靶系统，其中

所述推拉板的边缘具有阶梯部，相邻的推拉板的相邻边缘的阶梯部形状互补。

7.根据权利要求3至5中的任一项所述的靶系统，其中

所述推拉板的边缘具有阶梯部，相邻的推拉板的相邻边缘的阶梯部形状互补。

8.根据权利要求6所述的靶系统，其中

所述推拉板由两个重叠的板形成。

9.根据权利要求7所述的靶系统，其中

所述推拉板由两个重叠的板形成。

10.一种用于产生中子和/或中微子的系统，包括：

权利要求1所述的靶系统。

11.根据权利要求10所述的用于产生中子和/或中微子的系统，还包括：

束流发射件，所述束流发射件发射的束流的方向与所述开口的长度方向大致平行。