[发明专利]衍射光栅的制造方法、衍射效率计算方法及衍射光栅

权利要求书

1.一种衍射光栅的制造方法，其特征在于包括:

抗蚀剂涂布工序，在基板的表面涂布抗蚀剂；

曝光工序，通过从两个方向对涂布有所述抗蚀剂的所述基板的表面进行曝光而产生干涉条纹，在所述基板的表面形成对应于所述干涉条纹的抗蚀剂图案；

蚀刻工序，通过对所述抗蚀剂图案进行蚀刻，在所述基板的表面形成对应于所述抗蚀剂图案的衍射光栅槽；以及

掩模工序，在所述抗蚀剂涂布工序与所述曝光工序之间、或所述曝光工序与所述蚀刻工序之间，对所述抗蚀剂的表面的一部分施加掩模，

其中，通过所述蚀刻工序获得衍射光栅，所述衍射光栅在未施加所述掩模的区域中形成有所述衍射光栅槽，在施加了所述掩模的区域中未形成所述衍射光栅槽。

2.一种衍射效率计算方法，其特征在于包括：

准备工序，准备衍射光栅，在所述衍射光栅的表面包括：形成有衍射光栅槽的区域、及未形成所述衍射光栅槽的区域；

第一测定工序，将光照射至所述衍射光栅中的形成有所述衍射光栅槽的第一区域，测定来自所述第一区域的第一反射光的光接收强度；

第二测定工序，将光照射至所述衍射光栅中的未形成所述衍射光栅槽的第二区域，测定来自所述第二区域的第二反射光的光接收强度；以及

运算工序，基于在所述第一测定工序中测定出的所述第一反射光的光接收强度及所述第二测定工序中测定出的所述第二反射光的光接收强度，来计算出衍射效率。

3.一种衍射光栅，其特征在于包括：

基板，在所述基板的表面形成有衍射光栅槽区域与镜子区域，

所述衍射光栅槽区域形成有通过反射入射光而使所述入射光分散成各波长的光的衍射光栅槽，

所述镜子区域反射入射光而不会使所述入射光分散。

4.根据权利要求3所述的衍射光栅，其特征在于：

所述镜子区域包含平坦的反射面。

5.根据权利要求3所述的衍射光栅，其特征在于：

所述镜子区域为小于所述衍射光栅槽区域的区域。

6.根据权利要求3所述的衍射光栅，其特征在于：

所述镜子区域形成在所述基板的至少一个角部。

7.根据权利要求3所述的衍射光栅，其特征在于：

在所述衍射光栅槽区域的平面上，形成有所述衍射光栅槽。

8.根据权利要求3所述的衍射光栅，其特征在于：

所述基板的整个表面由金属薄膜覆盖。