[发明专利]一种防止足下垂调节治疗装置

权利要求书

1.一种防止足下垂调节治疗装置，其特征在于，包括足部支撑单元(1)、调位支撑单元(2)和安装固定单元(3)，安装固定单元(3)可拆卸的安装在病床边缘，调位支撑单元(2)固定安装在安装固定单元(3)上，调位支撑单元(2)悬设在病床上方，足部支撑单元(1)活动式安装在调位支撑单元(2)上；

病人的足部搭放在足部支撑单元(1)上保证病人的足底与病人的腿部呈垂直状态，足部支撑单元(1)能够在调位支撑单元(2)上进行位置改变以调节病人两腿之间的岔开距离；

所述的足部支撑单元(1)包括足底支撑件(11)和足后跟支撑件(12)，足底支撑件(11)和足后跟支撑件(12)相互垂直交叉连接，使用时，足后跟搭放在足后跟支撑件(12)上，足底在足底支撑件(11)的限制下与病人腿部呈垂直状态；

在足底支撑件(11)上设置多个角度调节气囊，通过对角度调节气囊的充气量的控制调节足底与腿部之间呈45～90°的夹角；

所述的调位支撑单元(2)包括依次相连的第一安装位置调节架(21)、足部支撑单元调节架(22)和第二安装位置调节架(23)，第一安装位置调节架(21)和第二安装位置调节架(23)的底端分别设置一个安装固定单元(3)，第一安装位置调节架(21)和第二安装位置调节架(23)调节调位支撑单元(2)在竖向和横向之间的高度和距离，足部支撑单元(1)活动式安装在足部支撑单元调节架(22)上；

所述的足部支撑单元调节架(22)为弧状轨道式构件，沿足部支撑单元调节架(22)设置足部支撑单元滑轨(222)，在足后跟支撑件(12)的底部设置支撑杆(125)，支撑杆(125)的底部设置滑块(126)，支撑杆(125)与足后跟支撑件(12)的连接处设置万向轴(124)，通过支撑杆(125)底部的滑块(26)沿足部支撑单元滑轨(222)的滑动实现足部支撑单元(1)在调位支撑单元(2)上的位置改变；

所述的足底支撑件(11)为板状构件，沿足底支撑件(11)的高度方向设置多个透气孔(111)，所述的角度调节气囊设置在相邻的透气孔(111)之间的足底支撑件(11)上，且在足底支撑件(11)的边缘设置脚背固定绑带(114)；

所述的足后跟支撑件(12)为嵌套抽拉板式构件，通过抽拉板延长足后跟支撑件(12)的长度能够同时对病人小腿部位进行支撑。

2.如权利要求1所述的防止足下垂调节治疗装置，其特征在于，所述的足后跟支撑件(12)是横切面为弧形的凹槽状中空支撑件，在足后跟支撑件(12)的中空腔内嵌设抽拉按摩板(121)，抽拉按摩板(121)的前端设置抽拉把手(122)。

3.如权利要求2所述的防止足下垂调节治疗装置，其特征在于，在所述的足后跟支撑件(12)和抽拉按摩板(121)上设置软垫层，且在软垫层内埋设按摩部件，足后跟支撑件(12)的边缘设置腿部固定绑带(123)。

4.如权利要求1、2或3所述的防止足下垂调节治疗装置，其特征在于，所述的安装固定单元(3)包括拧紧固定件(31)、安装固定槽(32)和转向调节轴(33)，安装固定单元(3)与调位支撑单元(2)之间通过转向调节轴(33)连接，安装固定槽(32)卡在病床边缘，通过拧紧固定件(31)进行安装固定槽(32)的固定。