[发明专利]一种阵列基板、显示面板和显示装置有效

申请号：	201610203341.8	申请日：	2016-04-01
公开（公告）号：	CN105609510B	公开（公告）日：	2018-10-23
发明（设计）人：	杨安家;陈磊;李嘉鹏;王生辉;代伍坤;彭志龙	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号：	H01L27/12	分类号：	H01L27/12
代理公司：	中科专利商标代理有限责任公司 11021	代理人：	曹玲柱
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：
搜索关键词：	一种阵列显示面板显示装置
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【说明书】：

本发明提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。该阵列基板包括：显示区和非显示区，非显示区包括第一布线区、第二布线区；其中，第一布线区的布线用于与显示区的信号线和驱动集成电路相连，第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。本发明通过第二布线区的布线设计，避免了光刻胶在显示区过度沉积，提高了光刻胶的均匀性。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。

背景技术

在制作薄膜晶体管(TFT-LCD，Thin Film Transistor)阵列工艺的过程中，具体在采用旋转涂布方式涂覆光刻胶的光刻工艺中，容易出现光刻胶厚度的不均的问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

鉴于上述技术问题，本发明提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置，以提高在旋转涂布光刻胶工艺中光刻胶在基板上分布的均匀性，防止斜向污渍(TrackMura)的发生。

(二)技术方案

根据本发明的一个方面，提供了一种阵列基板。该阵列基板包括：显示区和非显示区，其特征在于，所述非显示区包括第一布线区和第二布线区。其中，所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成电路相连，所述第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。

优选地，本发明阵列基板中，在所述第一布线区内包括第一布线，连接所述驱动集成电路与所述信号线的所述第一布线包括第一V型拐角；在所述第二布线区内包括第二布线，所述第二布线包括第二V型拐角，所述第二V型拐角凸起的方向与所述第一V型拐角凸起的方向相反。

优选地，本发明阵列基板中，所述第二布线区位于所述第一布线区远离显示区的一侧；所述第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。

优选地，本发明阵列基板中，所述第二布线区位于所述第一布线区靠近显示区的一侧；所述第二V型拐角凸起的顶点与所述第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。