[发明专利]OLED显示面板及其制备方法在审
申请号: | 201610205547.4 | 申请日: | 2016-04-05 |
公开(公告)号: | CN105702705A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 匡友元 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | oled 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及OLED显示面板技术领域,尤其涉及一种OLED显示面板以及 一种所述OLED显示面板的制备方法。
背景技术
OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示面板,是20 世纪中期发展起来的一种新型显示技术,具有超轻薄、全固态、主动发光、响 应速度快、高对比度、无视觉限制、工作温度范围宽、低功耗、低成本、抗震 能力强以及可实现柔性显示等诸多有点,将成为下一代平板显示的主力军。其 优越性能和巨大的市场潜力,吸引全世界众多厂家和科研机构投入到OLED显 示面板的生产和研发中。
然而,由于振动编带和不均匀加宽效应,无论是有机小分子还是高分子聚 合物发光材料,其光谱半宽度往往大于80nm,因而在利用红、绿、蓝三基色合 成而制备的彩色显示器中,利用率很低。为了制备具有窄带发射的OLED显示 面板,人们通过改变OLED显示面板的结构,制备OLED显示面板的Fabry-Perot (F-P)光学微腔来获得高亮度的窄带发射。光学微腔不仅实现了窄带发射,而 且还使得发射强度相对于无微腔结构的器件而言大大增强。常规的F-P光学微 腔结构需要两个反射镜面,一般采用金属-金属结构,因此F-P光学微腔结构 的微腔总光程受制于OLED显示面板中有机膜层的厚度及折射率,微腔总光程 较短,业内人士难以通过调节OLED显示面板中的有机膜层来增加微腔总光程。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种具有较长微腔总光程的OLED显 示面板,以及一种所述OLED显示面板的制备方法。
为了实现上述目的,本发明实施方式采用如下技术方案:
一方面,提供一种OLED显示面板,包括:
基板;
半透明阴极,形成在所述基板上;
发光层,形成在所述半透明阴极背离所述基板的一侧;
透明阳极,形成在所述发光层背离所述半透明阴极的一侧;及
光致变色层,形成在所述透明阳极背离所述发光层的一侧,所述光致变色 层包括在光激发下由透明到不透明变化的光致变色材料,所述发光层发出的光 线包括用于激发所述光致变色材料的波长。
其中,所述透明阳极采用氧化铟锡材料。
其中,所述半透明阴极采用镁银合金。
其中,当所述发光层不发光时,所述光致变色层在可见光范围内的透过率 大于90%;当所述发光层发光时,所述光致变色层在可见光范围内的透过率小 于10%。
其中,所述光致变色材料包括卤化银、卤化锌、卤化铜、卤化镁、螺环吡 喃、螺吩噁、嗪染料、脱氢吡啶中的一种或多种。
其中,所述OLED显示面板还包括形成在所述光致变色层与所述透明阳极 之间的调节层,所述调节层采用透明材质,用以调节所述光致变色层与所述透 明阳极之间的间距。
其中,所述OLED显示面板还包括:
空穴注入层,形成在所述透明阳极背离所述光致变色层的一侧;
空穴传输层,形成在所述空穴注入层与所述发光层之间;
电子传输层,形成在所述发光层背离所述空穴传输层的一侧;及
电子注入层,形成在所述电子传输层与所述半透明阴极之间。
另一方面,还提供一种OLED显示面板的制备方法,包括:
在基板上依次形成半透明阴极、发光层以及透明阳极;
在所述透明阳极背离所述发光层的一侧上形成光致变色层,所述光致变色 层包括在光激发下由透明到不透明变化的光致变色材料,所述发光层发出的光 线包括用于激发所述光致变色材料的波长。
其中,所述在基板上依次形成半透明阴极、发光层以及透明阳极包括:
通过蒸镀方式在所述基板上沉积镁银合金材料,以形成所述半透明阴极;
通过蒸镀方式在所述半透明阴极背离所述基板的一侧沉积发光材料,以形 成所述发光层;及
通过蒸镀方式在所述发光层背离所述半透明阴极的一侧沉积氧化铟锡材 料,以形成所述透明阳极。
其中,所述在所述透明阳极背离所述发光层的一侧上形成光致变色层包括:
在所述透明阳极背离所述发光层的一侧上,通过蒸镀、溅射或者电子束方 式沉积所述光致变色材料,以形成所述光致变色层。
相较于现有技术,本发明具有以下有益效果:
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