[发明专利]一种阴离子型聚合物与氯氧铋或溴氧铋的复合薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610214689.7 申请日: 2016-04-07
公开(公告)号: CN105733003B 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 陆军;巩祥庚 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L25/18;C08L33/02;C08K3/22
代理公司: 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 代理人: 张洪年
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阴离子 聚合物 氯氧铋 溴氧铋 复合 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种阴离子型聚合物与氯氧铋或溴氧铋的复合薄膜的制备方法,其特征在于,其具体操作步骤如下:

1)将氯氧铋或溴氧铋分散在水中,分散浓度为0.5-5g/L,3000-5000转/分搅拌3-5小时,然后加入浓度为0.01-0.05mol/L的乙酸银溶液,银与铋元素的摩尔比为1:1-2:1,继续搅拌12-15小时后抽滤,得到的滤液为澄清透明的氯氧铋或溴氧铋的正电荷纳米片胶体溶液,记为溶液A;

2)配制1-5g/L的阴离子型聚合物溶液,记为溶液B;

3)将亲水化处理后带负电荷的基底在溶液A中浸泡10-20分钟后取出,用去离子水充分清洗后,放置溶液B中,浸泡10-20分钟后取出,用去离子水充分清洗,得到一次循环的阴离子型聚合物与氯氧铋或溴氧铋的复合薄膜;

4)重复步骤3),在溶液A和溶液B中交替浸泡操作1-100次,得到多层阴离子型聚合物与氯氧铋或溴氧铋的复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的氯氧铋或溴氧铋的层板中的铋与氧的摩尔比为1:1-1:1.2。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的阴离子型聚合物选自聚苯乙烯磺酸钠及其衍生物、聚丙烯酸钠及其衍生物、聚甲基丙烯酸及其衍生物。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的基底为石英片、硅片或ITO片。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的亲水化处理的方法为:将基底用体积比为9:1-1:1的浓硫酸和双氧水混合液浸泡30-60分钟,然后用去离子水充分清洗。

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