[发明专利]一种石墨锅具及其制作方法有效
申请号: | 201610239018.6 | 申请日: | 2016-04-15 |
公开(公告)号: | CN107296508B | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 曹达华;肖北阳;杨玲;李洪伟;李宁 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司;美的集团股份有限公司 |
主分类号: | A47J36/04 | 分类号: | A47J36/04 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 何佩英 |
地址: | 528311 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 及其 制作方法 | ||
1.一种石墨锅具,包括由石墨制成的锅具本体,所述锅具本体具有内壁和外壁,其特征在于,至少所述内壁上附着有气相沉积法形成的硬质碳膜;所述硬质碳膜的厚度位于1.0μm至50μm之间。
2.根据权利要求1所述的石墨锅具,其特征在于,所述硬质碳膜的表面附着有不粘涂层。
3.根据权利要求1或2所述的石墨锅具,其特征在于,所述外壁的上附着有不粘涂层或硬质碳膜。
4.根据权利要求3所述的石墨锅具,其特征在于,所述硬质碳膜的厚度位于10μm至30μm之间。
5.一种石墨锅具的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤S1、将石墨成型成锅具本体;
步骤S2,将锅具本体通过化学气相沉积法镀膜处理或物理气相沉积法镀膜处理,在所述锅具本体的表面上形成硬质碳膜;所述硬质碳膜的厚度位于1.0μm至50μm之间。
6.根据权利要求5所述的石墨锅具的制作方法,其特征在于,所述化学气相沉积法镀膜处理的具体操作为:
将烘烤后的锅具本体放入镀膜室内,将所述镀膜室关闭并抽真空;
控制所述镀膜室内的气压P1、回收压力P2、辉光棒的功率P3、氩气流量Q1、氢气流量Q2、甲烷流量Q3、锅具本体的基材温度T1和沉积时间t1,执行锅具本体的化学气相沉积法镀膜。
7.根据权利要求6所述的石墨锅具的制作方法,其特征在于,所述气压P1、回收压力P2、辉光棒的功率P3、氩气流量Q1、氢气流量Q2、甲烷流量Q3、锅具本体的基材温度T1和沉积时间t1满足如下关系:
P1范围为0.5kpa至7kpa、P2范围为50kpa至150kpa、P3范围为2kw至20kw、Q1范围为1SLM至10SLM、Q2范围为0.5SLM至4.5SLM、Q3为0.02SLM至0.6SLM、T1范围为850℃至930℃和t1范围为1小时至12小时。
8.根据权利要求5所述的石墨锅具的制作方法,其特征在于,物理气相沉积法镀膜处理的具体操作为:
将烘烤后的锅具本体放入镀膜室内,将所述镀膜室关闭并抽真空;
控制所述镀膜室内的本底压力P4、成膜压力P5、溅射功率P6、偏压Vbias、氩气流量Q4、甲烷或者乙炔流量Q5、锅具本体的基材温度T2和沉积时间t2,执行锅具本体的物理气相沉积法镀膜处理。
9.根据权利要求8所述的石墨锅具的制作方法,其特征在于,所述本底压力P4、成膜压力P5、溅射功率P6、偏压Vbias、氩气流量Q4、甲烷或者乙炔流量Q5、锅具本体的基材温度T2和沉积时间t2满足如下关系:
P4范围为0.5x10-2Pa至0.5x10-3Pa、P5范围为2.0x1.0-1Pa至8.0x1.0-1Pa、P6范围为10kw至20kw、Vbias范围为100V至300V、Q4范围为0.2SLM至0.7SLM、Q5范围为0.10SLM至2.0SLM、T2范围为130℃至200℃和t2范围为3小时至5小时。
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