[发明专利]一种离型膜及其制备方法在审
申请号: | 201610239214.3 | 申请日: | 2016-04-18 |
公开(公告)号: | CN105694084A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 朱文峰 | 申请(专利权)人: | 东莞市纳利光学材料有限公司 |
主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04;C08J7/06;C09D133/00;C09D5/24;C09D5/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离型膜 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及离型贴膜技术领域,尤其涉及一种离型膜及其制备方 法。
背景技术
离型膜是薄膜表面能有区分的薄膜,离型膜与特定的材料在有限 的条件下接触后不具有粘性或具有轻微的粘性。
随着电子科技的不断发展,人们对电子领域用的离型膜性能要求 越来越高,其中非常关键的就是要求离型膜具备抗静电效果。传统的 离型膜基材一般使用的是BOPET(双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯)、 PP(聚丙烯)、PE(聚乙烯)等高绝缘性的高分子薄膜材料,离型涂 层一般采用绝缘性很强的有机硅类涂层,通常情况下,传统离型膜的 表面电阻率可达1012Ω/□,甚至更高。因此,传统离型膜在收放卷和 使用过程中特别容易产生和聚集静电电荷。静电电荷的存在对离型膜 的使用造成很多影响,轻者容易导致产品表面产生灰尘颗粒物的吸附, 重者由于静电堆积过多导致的静电放电,会造成电子元器件的损坏, 更为严重的还可能导致火灾、爆炸等灾难性事故。
除了要求离型膜的抗静电性之外,现阶段离型膜的需要是越来越 强烈,特别是高质量以及多功能的离型膜,然而,离型膜的生产厂家 虽多,但是离型膜的离型力不稳定,品类不多,且只具有抗静电、抗 刮花、耐高温离型膜,功能比较单一且生产环境恶劣,达不到1000 级无尘,车间洁净度不高,难以满足客户的需求。针对此现状,亟需 提供一种具有抗静电抗污效果的离型膜。
发明内容
本发明解决的技术问题在于提供一种离型膜及其制备方法,本申 请提供的离型膜抗污性与抗静电性。
有鉴于此,本申请提供了一种离型膜,包括:薄膜基材,设置于 薄膜基材表面的离型涂层,设置于薄膜基材背表面的UV功能层,其 特征在于,
所述UV功能层由涂布液制备成膜后得到,所述涂布液包括:
优选的,所述抗污剂选自含氟化合物和改性丙烯酸共聚体中的一 种或多种;所述含氟化合物选自乙烯-四氟乙烯共聚物、聚四氟乙烯、 氟化乙丙共聚物、全氟烷氧基树脂、聚氯三氟乙烯、乙烯-氯三氟乙烯 共聚物、聚偏氟乙烯和聚氟乙烯中的一种或多种;所述抗静电剂选自 聚环氧乙烷、仲烷基磺酸化合物的衍生物、改性有机磷酸酯、聚醚酯 酰胺和聚乙二醇中的一种或多种。
优选的,所述溶剂选自酮类溶剂和酯类溶剂中的一种或多种。
优选的,所述离型涂层的厚度为0.1~0.9μm,所述薄膜基材的厚 度为25~200μm,所述UV功能层的厚度为1~10μm。
优选的,所述离型涂层的制备原料选自烃类、醇类、羧酸、羧酸 酯、羧酸的金属盐、酮类和酰胺类中的一种或多种,所述基材薄膜的 制备原料选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸 酯、聚丙烯、聚氯乙烯和聚乙烯中的一种或多种。
优选的,所述丙烯酸树脂的含量为35~50重量份。
优选的,所述溶剂的含量为55~70重量份。
优选的,所述抗污剂的含量为3~8重量份。
优选的,所述抗静电剂的含量为0.4~1重量份。
本申请还提供了一种离型膜的制备方法,包括以下步骤:
将离型剂涂布于薄膜基材的一表面,固化,得到涂覆于薄膜基材 表面的离型涂层;
将涂布液涂布于薄膜基材的另一表面,依次经过烘干与固化,得 到离型膜;
所述涂布液包括:
本申请提供了一种离型膜,其包括:薄膜基材,设置于薄膜基材 表面的离型涂层,设置于薄膜基材背表面的UV功能层,其中,所述 UV功能层由涂布液制备得到,所述涂布液包括:20~60重量份的丙烯 酸树脂,50~80重量份的溶剂,2~10重量份的抗污剂,0.3~6重量份 的抗静电剂。本申请通过在UV功能层中添加抗污剂与抗静电剂,并 调整涂布液中四种组分的含量,使四种组分相互作用,最终使离型膜 具有较好的抗污性与抗静电性,总体性能也较好。
附图说明
图1为本发明离型膜的结构示意图。
具体实施方式
为了进一步理解本发明,下面结合实施例对本发明优选实施方案 进行描述,但是应当理解,这些描述只是为进一步说明本发明的特征 和优点,而不是对本发明权利要求的限制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市纳利光学材料有限公司,未经东莞市纳利光学材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610239214.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型电子缓冲包装材料及其制备方法
- 下一篇:一种绝缘隔热型碳纤维复合材料