[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶显示器

说明书

本发明公开了阵列基板及其制造方法、液晶显示器，该阵列基板包括衬底基板以及依次形成于衬底基板上的反射层以及彩膜层；其中，彩膜层的厚度从彩膜层的中间向彩膜层的边缘减小。通过上述方式，本发明能够扩大显示器的视角，增加显示器的亮度。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及阵列基板及其制造方法、液晶显示器。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)，根据其所使用的光源的类型和光源的设置方式，可以分为透射式液晶显示器、半透射式液晶显示器和反射式液晶显示器。

就反射式液晶显示器而言，其通过反射环境光，或者反射设置于显示面板前方的光源发出的光线来显示画面。由于受限于环境光或前方光源的入射方向限制，现有反射式液晶显示面板的显示视角太小，且亮度不够均匀。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供阵列基板及其制造方法、液晶显示器，能够扩大显示器的视角，增加显示器的亮度。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种阵列基板，该阵列基板包括衬底基板以及依次形成于衬底基板上的反射层以及彩膜层；其中，彩膜层的厚度从彩膜层的中间向彩膜层的边缘减小。

其中，彩膜层靠近反射层的一面为平面，背离反射层的一面为曲面。

其中，彩膜层为红色光阻层、绿色光阻层或蓝色光阻层。

其中，还包括设置在反射层靠近衬底基板一侧的薄膜晶体管以及依序设置在彩膜层远离衬底基板一侧的像素电极、绝缘层和公共电极。

其中，薄膜晶体管包括依次形成于衬底基板上的栅极、栅极绝缘层、源漏层；其中，源漏层包括低温多晶硅以及在低温多晶硅两侧经过掺杂分别形成的源极和漏极。

其中，反射层为金属反射层，金属反射层与漏极连接；金属反射层通过彩膜层上的通孔与像素电极连接。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种阵列基板的制造方法，该方法包括：提供一衬底基板；在衬底基板上依次形成反射层以及彩膜层；对彩膜层进行蚀刻，以使彩膜层中间的厚度大于边缘的厚度。

其中，彩膜层采用负性光刻胶制成；对彩膜层进行蚀刻，以使彩膜层中间的厚度大于边缘的厚度，包括：采用遮光板遮挡彩膜层；其中，遮光板的透光率从遮光板的中间向遮光板的边缘减小；对彩膜层进行曝光；对彩膜层进行显影，以使彩膜层的厚度从彩膜层的中间向彩膜层的边缘减小。

其中，在衬底基板上依次形成反射层以及彩膜层之前，还包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；对彩膜层进行蚀刻，以使彩膜层中间的厚度大于边缘的厚度之后，还包括：在彩膜层上依次形成像素电极、绝缘层以及公共电极。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种液晶显示器，该液晶显示器包括阵列基板、上基板以及阵列基板和上基板之间的液晶层；其中，阵列基板是如上的阵列基板。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明的阵列基板包括衬底基板以及依次形成于衬底基板上的反射层以及彩膜层；其中，彩膜层的厚度从彩膜层的中间向彩膜层的边缘减小。通过上述方式，彩膜层采用中间厚、边缘薄的结构，形成近似的平凸镜，对入射光纤反射后形成的反射光具有发散作用，进而使光线的出射角被放大，扩大了显示器的视角，增加显示器的亮度。

附图说明

图1是本发明阵列基板第一实施方式的结构示意图；

图2是本发明阵列基板第一实施方式的光路示意图；

图3是本发明阵列基板第二实施方式的结构示意图；

图4是本发明阵列基板的制作方法一实施方式的流程示意图；