[发明专利]基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法有效
| 申请号： | 201610242396.X | 申请日： | 2016-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN105928688B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 刘世杰;王圣浩;张志刚;李灵巧;王微微;周游;潘本威;白云波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J3/28 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光栅衍射效率 光谱 测量 线阵CCD探测器 原位时间分辨 凹面聚焦镜 凹面准直镜 光栅 测量装置 测试系统 光谱参数 光源模块 参考光 测试光 机械稳定性 标准参考 参考光束 测量过程 测试光束 单次曝光 机械结构 光源 静止 测试 应用 | ||
【权利要求书】：
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