[发明专利]一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用

权利要求书

1.一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：

设有提供真空空间的真空容器（1）；

设有安装在真空容器（1）内，用于放置基体（4）的支架（2）；

设有安装在真空容器（1）内，用于向基体（4）表面局部生长薄膜或涂层的区域提供热源的激光源（3）；

设有安装在真空容器（1）内，用于向基体（4）表面局部生长薄膜或涂层的区域喷吹气体反应物的气体喷出装置；

设有一个或者若干个用于传输气体反应物的气体管线（5），气体管线（5）一端与气体喷出装置连接，另一端伸出真空容器（1）与用于储藏气体反应物的气体储藏罐（6）连接；在气体管线（5）和气体储藏罐（6）之间设有流量阀（7）；

设有与真空容器（1）相连，内含碱性化合物用于中和反应后产生的酸性副产物或内含分子筛用于吸附有毒气体的过滤装置（8）；过滤装置（8）与真空泵（9）连接；

设有机械手Ⅰ（10），机械手Ⅰ（10）与激光源（3）和气体喷出装置连接，或者机械手Ⅰ（10）与支架（2）连接；

设有控制装置（11），控制装置（11）控制流量阀（7）；控制装置（11）通过机械手Ⅰ（10）控制激光源（3）和气体喷出装置相对于基体（4）移动，或者控制装置（11）通过机械手Ⅰ（10）控制支架（2）来控制基体（4）相对于激光源（3）和气体喷出装置移动；

设有金属储藏罐（19），金属储藏罐（19）安装在气体储藏罐（6）和气体管线（5）之间，金属储藏罐（19外设有加热装置Ⅰ（20），在与金属储藏罐（19）相连的气体管线（5）外设有加热装置Ⅱ（21）；

设有准分子激光仪（22）和机械手Ⅱ（23），控制装置（11）通过机械手Ⅱ（23）控制准分子激光仪（22）相对于基体（4）移动；

所述的气体喷出装置的外缘设有隔热层。

2.根据权利要求1所述的一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：所述的气体喷出装置是一端设有气体出口（18）的喷嘴（12），每个气体管线（5）的出口端分别安装一个喷嘴（12）。

3.根据权利要求1所述的一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：所述的气体喷出装置是：锥形主体（13）内设有隔板（14），隔板（14）将锥形主体（13）内分隔成两个气体流动腔，两个气体流动腔在气体出口（18）端会合，每个气体流动腔连接一个气体管线（5）。

4.根据权利要求1所述的一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：所述的气体喷出装置是：气体集流腔结构（15）上设有若干组气体喷嘴头（16），每组气体喷嘴头（16）由两个对称设置的气体流动通道（17）构成，每个气体流动通道（17）的一端与气体管线（5）连接，另一端为气体出口（18）。

5.根据权利要求1所述的一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：设有模板（24），模板（24）活动安装在基体（4）和气体喷出装置之间，模板（24）上开有与要沉积的薄膜和涂层图案相对应的窗口（25）。