[发明专利]一种用于微区空间相干图样的光学系统及其工作方法

权利要求书

1.一种用于微区空间相干图样的光学系统，该系统包括沿光路依次设置的第一全反镜(3)、第一透镜(4)、双缝(5)和第一双缝干涉成像透镜(7)，其特征在于，该系统还包括沿光路在第一全反镜(3)前设置有显微镜(2)，以及在第一双缝干涉成像透镜(7)后设置有第二全反镜(9)；该系统还包括沿第二全反镜(9)的反射光路上依次设置的成像透镜(11)、第三全反镜(13)、第二双缝干涉成像透镜(14)和电荷耦合器件(16)；其中，双缝(5)、第一双缝干涉成像透镜(7)、第二全反镜(9)、成像透镜(11)和第二双缝干涉成像透镜(14)为可移动元件，通过各可移动元件在光路上的放置或去除形成不同的光学路径。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，该系统还包括沿第一全反镜(3)的反射光路并在第二全反镜(9)后依次设置的第四全反镜(17)、第二透镜(18)和光纤接口(19)，当所述第二全反镜(9)从光路上去除时，原本经第二全反镜(9)反射的光经第四全反镜(17)反射后经过第二透镜(18)和光纤接口(19)。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，该系统还包括转盘和三维平移台(6)，所述双缝在转盘上可拆卸安装，调节转盘能够使双缝转动到任意角度，三维平移台能够使双缝在前后、左右、上下三个维度上移动，从而通过转盘和三维平移台调节所述双缝的位置。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述双缝(5)所处平面与样品面共轭，通过双缝(5)在其所处平面上进行位置调整，选择目标区域。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，工作时，所述双缝位于第一透镜(4)的焦点，该焦点位于样品面的共轭面。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述双缝的两个狭缝尺寸相同。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述不同的光学路径包括第一光路，通过将第一双缝干涉成像透镜(7)和第二双缝干涉成像透镜(14)从光路中去除，将双缝(5)、第二全反镜(9)和成像透镜(11)放置在光路上，形成所述第一光路。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述不同的光学路径包括第二光路，通过将成像透镜(11)从光路上去除，将双缝(5)、第一双缝干涉成像透镜(7)、第二全反镜(9)和第二双缝干涉成像透镜(14)放置在光路上，形成所述第二光路。

9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述不同的光学路径包括第三光路，通过将双缝(5)、第一双缝干涉成像透镜(7)和第二全反镜(9)去除，将成像透镜(11)和第二双缝干涉成像透镜(14)放置在光路上，形成所述第三光路。

10.一种如权利要求1-9中任一项所述的用于微区空间相干图样的光学系统的工作方法，其特征在于，所述方法包括：在光路中放置或去除双缝(5)、第一双缝干涉成像透镜(7)、第二全反镜(9)、成像透镜(11)和/或第二双缝干涉成像透镜(14)，在显微镜出光位置后方形成不同的光学路径。