[发明专利]纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板

权利要求书

1.一种纳米压印模板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供一圆柱状的硬质滚筒(1)；

步骤2、提供具有纳米线栅结构的膜片，将该膜片包覆在所述硬质滚筒(1)的外圆周面上形成纳米线栅结构膜层(2)，得到中间筒体；

步骤3、提供低熔点焊料合金，将该低熔点焊料合金加热至液态，将步骤2得到的中间筒体浸入该低熔点焊料合金液体中、或者在加热后的中间筒体上涂布一层该低熔点焊料合金液体，冷却后，在所述中间筒体外圆周面上沿所述纳米线栅结构膜层(2)的纳米线栅结构形成一层结构硬化层(3)，从而得到具有纳米线栅结构的纳米压印模板。

2.如权利要求1所述的纳米压印模板的制作方法，其特征在于，所述步骤3中提供的低熔点焊料合金为熔点温度低于300℃的合金材料。

3.如权利要求1所述的纳米压印模板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中提供的膜片为有机材料，其熔点温度高于所述低熔点焊料合金的熔点温度。

4.如权利要求1所述的纳米压印模板的制作方法，其特征在于，所得到纳米压印模板具有数条周期性排列的光栅凹槽，所述光栅凹槽的宽度及相邻两光栅凹槽之间的距离均小于150nm。

5.如权利要求3所述的纳米压印模板的制作方法，其特征在于，所述步骤2提供的膜片的材料为PMMA、POM、PBT、PET、PC、PE、PEEK、PP、PS、或PVDC。