[发明专利]用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理装置及其工艺

权利要求书

1.一种用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理装置，包括与氢氟酸废水来水连接的 氢氟酸废水收集池(1)和氢氟酸废水处理系统；

所述氢氟酸废水收集池(1)依次连接的废水泵(2)、预处理水池(3)和原水箱(5)； 所述原水箱(5)的出水分两路：一路依次经低压泵(6)、多介质过滤器(7)、保安过滤器 (10)和一级高压泵(11)，连接至一级反渗透系统(12)的原水进口，另一路依次经反洗 泵(8)连接至所述多介质过滤器(7)的反洗进口，所述多介质过滤器(7)的反洗出口连 接至所述氢氟酸废水处理系统；

所述一级反渗透系统(12)包括两段反渗透单元，所述一级反渗透系统(12)的产水 口连接到一级pH调节池(13)，所述一级反渗透系统(12)的浓水口连接到氢氟酸废水处理 系统；其特征在于：

所述一级pH调节池(13)的出液口依次连接到二级pH调节池(15)、二级高压泵(17) 后连接到二级反渗透系统(18)的原水进口；所述二级反渗透系统(18)为两段反渗透结 构，所述二级反渗透系统(18)的浓水口连接到氢氟酸废水处理系统，所述二级反渗透系 统(18)的产水口连接到产水箱(19)，所述产水箱(19)的出口通过回用水泵(20)后分 别连接到回水管道和氢氟酸废水收集池(1)；

所述预处理水池(3)、所述一级pH调节池(13)、所述二级pH调节池(15)均分别连接 有氢氧化钠自动加药装置，每套氢氧化钠自动加药装置配套有搅拌器和pH在线检测仪；

所述保安过滤器(10)的进口管道上连接有阻垢剂自动加药装置(9)；

各氢氧化钠自动加药装置、阻垢剂自动加药装置(9)、多介质过滤器(7)均与一PLC 控制装置相连；所述氢氟酸废水收集池(1)、预处理水池(3)、原水箱(5)、一级pH调节 池(13)、二级pH调节池(15)和产水箱(19)均分别设有与所述PLC控制装置连接的液位 传感器；所述一级反渗透系统(12)、二级反渗透系统(18)和回水管道上均各自配套有与 所述PLC控制装置连接的水质监视仪表。

2.一种用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理工艺，其特征在于，利用如权利要求 1所述用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理装置，处理工艺的步骤是：氢氟酸废水来 水经氢氟酸废水收集池(1)、废水泵(2)进入预处理水池(3)，将预处理水池(3)中废 水的pH值调整到pH＝2.4-2.6；自预处理水池(3)排出的废水经过多介质过滤器(7)去除其 中的悬浮物和有机物后进入一级反渗透系统(12)脱除废水中的氟硅酸盐和部分氟离子， 一级反渗透系统(12)的出水先经过一级pH值的调整至pH＝4-6，再经过二级pH值的调整至 pH＝8-9后，再经过二级高压泵(17)增压后进入二级反渗透系统(18)进行脱氟除盐处理， 与回用水泵出口配套的水质监视仪表对二级反渗透系统(18)的产水进行回用水水质检测， 若不符合回用水标准则通过回水管道上的阀门切换排回到氢氟酸废水收集池，重新处理； 若符合则通过回水管道提供给用户。

3.根据权利要求1所述用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理工艺，其特征在于， 各氢氧化钠自动加药装置内的氢氧化钠溶液的质量百分比为15-25％。

4.根据权利要求1所述用于光伏、半导体行业氢氟酸废水回用处理工艺，其特征在于， 经过一级反渗透系统(18)处理后的出水的pH＝3～3.5，氟离子含量在180-220ppm，电导在 2000～3000us/cm；经过二级反渗透系统(18)处理后的出水的pH＝7，氟离子含量在5ppm以 下，电导在20us/cm以下。