[发明专利]一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置及方法有效

专利信息
申请号: 201610263441.X 申请日: 2016-04-26
公开(公告)号: CN105758719B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 白鹏翔;朱飞鹏;雷冬 申请(专利权)人: 河海大学
主分类号: G01N3/06 分类号: G01N3/06;G01B11/16
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司32200 代理人: 朱桢荣
地址: 210098*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 反射 均匀 应变 光学 测量 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置,其特征在于,包括光源、第一反射镜、第二反射镜、摄像机和处理器;其中,

光源用于产生非相干光,非相干光照射被测样品的第一被测面和第二被测面,第一被测面和第二被测面相互平行,且第一被测面和第二被测面均与摄像机的光轴平行;

第一反射镜,用于使第一被测面经其反射成像至摄像机的镜头上;

第二反射镜,用于使第二被测面经其反射成像至摄像机的镜头上;

摄像机,用于将采集到的第一被测面的图像和第二被测面的图像传输至处理器进行处理,得到被测样品的应变。

2.根据权利要求1所述的一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置,其特征在于,所述第一反射镜和第二反射镜为相同规格的反射镜,且大小相等。

3.根据权利要求1所述的一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置,其特征在于,第一反射镜和第二反射镜是对称设置在被测样品的两侧。

4.根据权利要求1所述的一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置,其特征在于,所述第一反射镜与被测样品的第一被测面成45度角,第二反射镜与被测样品的第二被测面成45度角。

5.根据权利要求1所述的一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置,其特征在于,所述处理器为计算机。

6.基于权利要求1所述的一种基于双镜反射的均匀应变光学测量装置的测量方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、在被测样品的第一被测面、第二被测面上分别制造特征图案;

步骤2、在被测样品发生变形前,采集变形前的第一被测面和第二被测面的图像;在变形前的第一被测面的图像中选取两个特征点,两特征点连线方向与应变方向平行,这两特征点间距为第一标距;在变形前的第二被测面的图像中也选取两个特征点,两特征点连线方向与应变方向平行,这两特征点间距为第二标距;

步骤3、在被测样品发生变形后,采集得到变形后的第一被测面和第二被测面的图像,分别测量出被测样品的两个被测表面的应变;具体如下:

根据变形后的第一被测面的图像,利用数字图像相关算法分别计算出两个特征点的绝对位移,将这两个特征点的绝对位移相减得出两个特征点的相对位移,两个特征点的相对位移再除以第一标距即得到第一被测面的应变;

根据变形后的第二被测面的图像,利用数字图像相关算法分别计算出两个特征点的绝对位移,将这两个特征点的绝对位移相减得出两个特征点的相对位移,两个特征点的相对位移再除以第二标距即得到第二被测面的应变;

步骤4、测量出被测样品的应变:将步骤3中计算出的第一被测面的应变和第二被测面的应变进行算术平均,即得到被测样品的应变。

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