[发明专利]配向装置有效

专利信息
申请号: 201610267037.X 申请日: 2016-04-26
公开(公告)号: CN105717709B 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 井杨坤 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 装置
【权利要求书】:

1.一种配向装置,其特征在于,所述配向装置包括:横波发生器,

所述横波发生器能够向待配向基板的配向层发出预设横波,使所述配向层中的第一分子链在所述预设横波的作用下断裂,所述配向层中的第二分子链在所述预设横波的作用下保持完整,所述第一分子链的长度方向平行于所述预设横波的传播方向,所述第二分子链的长度方向与所述第一分子链的长度方向不同。

2.根据权利要求1所述的配向装置,其特征在于,

所述横波发生器包括超声横波发生器,所述预设横波包括超声横波。

3.根据权利要求2所述的配向装置,其特征在于,

所述横波发生器还包括电磁波发生器,所述预设横波还包括电磁波。

4.根据权利要求3所述的配向装置,其特征在于,所述电磁波发生器包括:紫外光源和偏振片,

所述电磁波为紫外光,所述偏振片位于所述紫外光源的出光侧,经过所述偏振片的紫外光的传播方向与所述超声横波的传播方向平行,且经过所述偏振片的紫外光的振动方向与所述超声横波的振动方向平行。

5.根据权利要求4所述的配向装置,其特征在于,所述配向装置还包括:真空吸附器,所述真空吸附器用于吸附所述配向层表面的物体。

6.根据权利要求1所述的配向装置,其特征在于,所述配向装置还包括气流发生器,

所述气流发生器能够向所述配向层的表面输出气流,且所述气流的温度大于或等于150摄氏度,且小于或等于300摄氏度。

7.根据权利要求2所述的配向装置,其特征在于,

所述超声横波为双频复合超声横波。

8.根据权利要求7所述的配向装置,其特征在于,

所述超声横波为X-Y轴轴向正交的双频复合超声横波,且所述双频复合超声横波的频率分别为68千赫兹和80千赫兹。

9.根据权利要求5所述的配向装置,其特征在于,

所述电磁波发生器和所述真空吸附器分别设置在所述超声横波发生器的两侧。

10.根据权利要求1至9任一所述的配向装置,其特征在于,所述配向装置还包括承载台,所述承载台的承载面用于承载所述待配向基板,并带动所述承载面上承载的待配向基板运动。

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