[发明专利]非对称结构相移光栅及DFB半导体激光器在审
申请号: | 201610272268.X | 申请日: | 2016-04-28 |
公开(公告)号: | CN107332105A | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | 郑俊守;孙雨舟;王祥忠 | 申请(专利权)人: | 苏州旭创科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/12 | 分类号: | H01S5/12;H01S5/30 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 对称 结构 相移 光栅 dfb 半导体激光器 | ||
1.一种非对称结构相移光栅,其特征在于,所述相移光栅包括位于相移光栅中心位置的相移结构及位于相移结构两侧的第一光栅和第二光栅,所述第一光栅和第二光栅的长度相同、光栅周期相等、且光栅占空比相等或光栅占空比之和等于1,第一光栅和第二光栅的刻蚀深度不同。
2.根据权利要求1所述的非对称结构相移光栅,其特征在于,所述相移结构的相移量为0、λ/4、λ/8、或λ,λ为相移光栅的输出波长。
3.根据权利要求1所述的非对称结构相移光栅,其特征在于,第一光栅和第二光栅的占空比为(0,1)范围内的任意值且两者占空比相等,或第一光栅和第二光栅的占空比分别在(0,0.5)和(0.5,1)范围且两者之和等于1。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的非对称结构相移光栅,其特征在于,所述第一光栅的耦合系数为κ1,第二光栅的耦合系数为κ2,κ1与κ2不等且满足κ1: κ2=H1:H2,其中,H1和H2分别为第一光栅和第二光栅的刻蚀深度,H1≠H2。
5.一种DFB半导体激光器,所述DFB半导体激光器包括DFB激光腔及位于DFB激光腔上方和下方的若干外延层,DFB激光腔包括依次设置的光栅刻蚀阻止层、相移光栅、光栅覆盖层,其特征在于,所述相移光栅包括位于相移光栅中心位置的相移结构及位于相移结构两侧的第一光栅和第二光栅,所述第一光栅和第二光栅的长度相同、光栅周期相等、且光栅占空比相等或光栅占空比之和等于1,第一光栅和第二光栅的刻蚀深度不同,DFB半导体激光器两端面的输出功率不相等,以增大DFB半导体激光器的有效输出光功率。
6.根据权利要求5所述的DFB半导体激光器,其特征在于,所述相移结构的相移量为0、λ/4、λ/8、或λ,λ为相移光栅的输出波长。
7.根据权利要求5所述的DFB半导体激光器,其特征在于,第一光栅和第二光栅的占空比为(0,1)范围内的任意值且两者占空比相等,或第一光栅和第二光栅的占空比分别在(0,0.5)和(0.5,1)范围且两者之和等于1。
8.根据权利要求5所述的DFB半导体激光器,其特征在于,所述DFB半导体激光器的两侧端面均镀有抗反射膜。
9.根据权利要求5~7中任一项所述的DFB半导体激光器,其特征在于,所述DFB半导体激光器位于第二光栅侧端面的输出光功率为P2,第一光栅侧端面的输出光功率为P1,P2与P1不等且满足P2:P1=κ1: κ2=H1:H2,其中,κ1和κ2分别为第一光栅和第二光栅的耦合系数,κ1与κ2相等,H1和H2分别为第一光栅和第二光栅的刻蚀深度,H1≠H2。
10.根据权利要求5所述的DFB半导体激光器,其特征在于,所述DFB半导体激光器为掩埋异质结型激光器或脊波导型激光器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州旭创科技有限公司,未经苏州旭创科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610272268.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种建筑工程测绘专用的便携式折叠尺
- 下一篇:一种脉冲功率用磁延迟伪火花开关