[发明专利]一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构

权利要求书

1.一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括减反射高强度保护膜系；其特征在于：还包括氟化镁基片；所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在所述第三膜层上。

2.根据权利要求1所述一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，其特征在于：包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度19nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度503nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度502nm，并镀制在所述第三膜层上。

3.根据权利要求1所述一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，其特征在于：包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度18nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度496nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度114nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度500nm，并镀制在所述第三膜层上。

4.根据权利要求1所述一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，其特征在于：包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度503nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度120nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度502nm，并镀制在所述第三膜层上。

5.根据权利要求1所述一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，其特征在于：包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度18nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498nm，并镀制在所述第三膜层上。

6.根据权利要求1所述一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，其特征在于：包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，所述减反射高强度保护膜系由四种薄膜材料制备的四个膜层叠加构成，其中，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在所述氟化镁基片的表面上，膜层厚度22nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度501nm，并镀制在所述第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度118nm，并镀制在所述第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度502nm，并镀制在所述第三膜层上。