[发明专利]一种制备高纯三氧化钼的方法

权利要求书

1.一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：将钼焙砂置于升华炉中，加热至800-1000℃后通入水并保持钼焙砂的受热温度为800-1000℃，得到水蒸气与气态三氧化钼；水蒸气与气态三氧化钼输送到冷却室进行分段凝华，得到高纯三氧化钼。

2.根据权利要求1所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：将钼焙砂置于升华炉中，加热至800-1000℃；同时，将140℃及其以上温度的水蒸汽通过压缩、鼓吹到熔池液面并保持钼焙砂的受热温度为800-1000℃，得到水蒸气与气态三氧化钼；水蒸气与气态三氧化钼输送到冷却室进行两段凝华，得到高纯三氧化钼。

3.根据权利要求1所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：所述钼焙砂是通过下述方案制备的：对钼精矿进行氧化焙烧后获得的钼焙砂，所述钼精矿预选为硫化钼精矿；或所述钼焙砂为经酸洗除杂、干燥处理后的钼焙砂。

4.根据权利要求1所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：所述钼焙砂中钼的质量百分含量大于等于55％，硫的质量百分含量小于等于1％，其余Ca、Mg、Pb、Cu、Fe的质量百分含量分别不超过5％，氯的百分含量不超过0.05％。

5.根据权利要求1所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：对钼焙砂进行破碎处理后装入升华炉中；所述破碎处理是将钼焙砂破碎至粒度小于等于3mm的颗粒占钼焙砂总质量的80％及其以上。

6.根据权利要求1所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：

当原料钼品位低于60％时，控制加热温度为900-1000℃；

当原料钼品位在60％及其以上时，控制加热温度为800-950℃；

当铅含量高于0.5％时，控制温度不超过950℃。

7.根据权利要求2所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：

所述水蒸气通过升华炉中下部对熔池液面进行侧吹，侧吹时，控制水蒸气的体积流量控制在300-600m³/h。

8.根据权利要求7所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：在初始挥发的10-30min内，为促进钼的氧化及硫的脱除，在水蒸气中配入20-50％体积流量的热空气。

9.根据权利要求1或2所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：所述冷却室由相连的中温段冷却室和低温段冷却室构成；所述中温段冷却室采用渐冷方式，其进气温度为600-900℃，出气温度为150-200℃，冷却速率控制在10-25℃/s；所述低温段冷却室采用骤冷方式；其出气口的温度小于等于70℃。

10.根据权利要求9所述的一种制备高纯三氧化钼的方法，其特征在于：中温段收集到产品纯度大于等于99.9％；低温段收集到的产品纯度大于等于99.8％。