[发明专利]一种微水抛光机

说明书

本发明公开了一种微水抛光机。其包括机架，机架上设有输送线组件和若干个抛光磨头装置，所述若干个抛光磨头装置一一对应输送线组件的输送方向布置在输送线组件的上方；对应每个抛光磨头装置的抛光磨头设有一个微水喷洒组件。每个微水喷洒组件设置在一个抛光磨头中或设置在一个抛光磨头的前方。本发明在保证瓷片(瓷砖)抛光质量的前提下，实现微水抛光工艺，后续只需经较短时间干燥，甚至无需干燥即可直接包装入库，从而降低了设备的投入及生产成本。本发明还可推广用于仿古砖全抛釉等生产领域。

技术领域

本发明属于瓷片(瓷砖)深加工技术领域，具体涉及一种用于瓷片(瓷砖)的微水抛光机。

背景技术

瓷片(瓷砖)一般用装饰卫生间及厨房墙面，为保证结合强度，瓷片(瓷砖)通常有较高的吸水率；而为保证表面光滑、便于打扫卫生，表面多需经施釉处理，早些年在产品烧成后表面不需进行深加工。但是，由于近年来人们审美要求的提高，瓷片(瓷砖)除四周磨边外，表面还增加了抛光工序。然而，采用传统的抛光砖生产工艺，不仅耗水量大，而且由于瓷片(瓷砖)的吸水率较高，后续需增加干燥工序，如果干燥不彻底，产品进仓后可能开裂或因包装箱吸水腐烂。为避免该情况产生，产品经抛光后，后续需增设很长的干燥线，长度往往达到50-100m以上,不仅占地面积大，且需增加窑炉设备的投入，后续生产中除可利用一部分窑炉尾气外，还需增加相当燃料消耗，生产成本高。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种微水抛光机。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种微水抛光机，包括机架，机架上设有输送线组件和若干个抛光磨头装置，所述若干个抛光磨头装置一一对应输送线组件的输送方向布置在输送线组件的上方；对应每个抛光磨头装置的抛光磨头设有一个微水喷洒组件。

作为优选，每个微水喷洒组件主要由雾化喷头和通水管组成。

进一步，每个微水喷洒组件的喷水量为0.1-0.6升/分钟，最佳为0.35升/分钟；供水压力为0.1-0.5MPa，最佳为0.30MPa；每个雾化喷头的出水孔径为0.8-1.2毫米，最佳为1.0毫米。

作为一种选择，每个雾化喷头对应设置在一个抛光磨头的底部中心处，所述通水管沿抛光磨头之中心轴线穿设其中并与该雾化喷头连接。

进一步，所述机架上还设有若干块等间距排布的隔板，每个抛光磨头装置设置在两块隔板之间。

作为另一种选择，每个雾化喷头对应设置在一个抛光磨头前方的隔板下端部，所述通水管藏设于该隔板中并与该雾化喷头连接。

作为优选，所述输送线组件包括有平皮带或同步带。

作为优选，所述输送线组件的进砖端设有进砖端去水组件。

进一步，所述进砖端去水组件包括：支架，固定在所述机架上；至少一个吸水辊棒，对应所述输送线组件进砖端下方的平皮带或同步带表面设置在所述支架上；至少一个吹风头，对应所述输送线组件进砖端前端下方的平皮带或同步带设置在所述支架上；一个防护板，对应所述输送线组件进砖端的前端横向设置在支架上；和一个毛刷，设置在所述防护板的前端。

作为优选，所述吸水辊棒的数量为三个，所述吹风头的数量为两个。

进一步，所述输送线组件的出砖端设有出砖端清扫组件。

作为优选，所述出砖端清扫组件包括：安装支架，固定在所述机架上；一个刮泥挡水板，对应所述输送线出砖端的平皮带或同步带表面设置在所述安装支架的上端部；一个冲水喷头，对应所述输送线组件出砖端的平皮带或同步带表面设置在所述安装支架的上端部；和一个清扫滚筒，对应所述输送线组件出砖端下方的平皮带或同步带表面设置在所述安装支架的下部。