[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法有效
申请号: | 201610282686.7 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN105954982B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李鹤松 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 非接触方式 曝光部位 对基板 物体处理装置 基板载台 空气悬浮 曝光装置 元件制造 曝光 面位置 喷出 载台 支承 配置 | ||
【权利要求书】:
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