[发明专利]物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法有效
| 申请号： | 201610282687.1 | 申请日： | 2010-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN105954976B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B65G49/06 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李鹤松<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 物体 处理 装置 曝光 方法 以及 元件 制造 | ||
【权利要求书】：
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