[发明专利]一种金属纳米线网和二氧化钒的复合薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种金属纳米线网和不掺杂的VO₂的复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）配制金属纳米线涂覆液；

（2）将金属纳米线涂覆液以下述方式与不掺杂的VO₂复合，即可制备出金属纳米线网和不掺杂的VO₂的复合薄膜：

涂覆于基板形成金属纳米线网，再于所述金属纳米线网上涂覆纳米VO₂粉体的涂覆液，得到不掺杂的VO₂膜层；所述金属纳米线涂覆液的涂覆层数为3～6，溶剂为异丙醇、酒精、水、环己烷中的至少一种，金属纳米线的浓度为0.01～0.1g/mL ；纳米VO₂粉体的粒径为10～200 nm；所述复合薄膜的发射率为0.41～0.21；

金属纳米线网的平均网孔尺寸范围为100～1100 nm，

不掺杂的VO₂薄膜的厚度为10nm～300μm，

金属纳米线网的厚度为10～45μm；

所述金属纳米线为银纳米线、铜纳米线、和铝纳米线中的至少一种；

所述金属纳米线的直径范围为10～100nm，长度与直径比为800～5000；

所述金属纳米线网和不掺杂的VO₂的复合薄膜实现低发射和智能调光性质的兼顾。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，金属纳米线网通过旋涂法、辊涂法、喷涂法获得。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，VO₂膜层通过旋涂法、辊涂法、喷涂法获得。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，纳米VO₂粉体的涂覆液中，溶剂为异丙醇、乙醇、水、乙酸乙酯中的至少一种，纳米VO₂粉体的固含量为2%～4%。