[发明专利]测试结构及其形成方法以及测试方法

权利要求书

1.一种测试结构，其特征在于，包括：

基底、以及位于基底表面的第一导电层；

位于所述第一导电层上方的第二导电层，所述第二导电层包括相互电绝缘的第一子导电层以及第二子导电层，其中，所述第一子导电层包括若干分立的第一金属层，所述第二子导电层通过第一导电插塞与第一导电层相连；

位于所述第二导电层上方的第三导电层，所述第三导电层为梳状结构，包括第一梳柄部以及与所述第一梳柄部相连的分立的第一梳齿部，其中，所述分立的第一梳齿部通过第二导电插塞与所述分立的第一金属层相连；

第一测试垫，所述第一测试垫与所述第一梳柄部相连；

第二测试垫，所述第二测试垫与所述第一导电层或第二子导电层相连。

2.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述第二子导电层为梳状结构，包括第二梳柄部以及与所述第二梳柄部相连的分立的第二梳齿部。

3.如权利要求2所述的测试结构，其特征在于，所述分立的第二梳齿部的排列方向与所述第一梳齿部的排列方向相互垂直。

4.如权利要求2所述的测试结构，其特征在于，所述第一导电层包括若干分立的第二金属层，其中，所述分立的第二金属层通过所述第一导电插塞与所述分立的第二梳齿部相连。

5.如权利要求4所述的测试结构，其特征在于，所述若干分立的第二金属层的排列方向与所述分立的第一梳齿部的排列方向相同。

6.如权利要求2所述的测试结构，其特征在于，所述第二测试垫与所述第二子导电层的第二梳柄部相连。

7.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述第一导电层为梳状结构，包括第三梳柄部以及与所述第三梳柄部相连的分立的第三梳齿部。

8.如权利要求7所述的测试结构，其特征在于，所述分立的第三梳齿部的排列方向与所述分立的第一梳齿部的排列方向相同。

9.如权利要求7所述的测试结构，其特征在于，所述第二子导电层包括若干分立的第三金属层，其中，所述分立的第三金属层通过所述第一导电插塞与所述分立的第三梳齿部相连。

10.如权利要求9所述的测试结构，其特征在于，所述若干分立的第三金属层的排列方向与所述分立的第一梳齿部的排列方向相互垂直。

11.如权利要求7所述的测试结构，其特征在于，所述第二测试垫与所述第一导电层的第三梳柄部相连。

12.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述测试结构还包括：覆盖所述基底表面、第一导电层表面、第二导电层表面以及第三导电层表面的介质层。

13.一种测试结构的形成方法，其特征在于，包括：

提供基底；

在所述基底表面形成第一导电层；

在所述第一导电层顶部表面形成第一导电插塞；

在所述第一导电层上方形成第二导电层，所述第二导电层包括相互电绝缘的第一子导电层以及第二子导电层，其中，所述第一子导电层包括若干分立的第一金属层，且所述第二子导电层通过所述第一导电插塞与所述第一导电层相连；

在所述第一金属层顶部表面形成第二导电插塞；

在所述第二导电层上方形成第三导电层，所述第三导电层为梳状结构，包括第一梳柄部以及与所述第一梳柄部相连的分立的第一梳齿部，其中，所述分立的第一梳齿部通过所述第二导电插塞与所述分立的第一金属层相连；

形成第一测试垫，所述第一测试垫与所述第一梳柄部相连；

形成第二测试垫，所述第二测试垫与所述第一导电层或第二子导电层相连。