[发明专利]基于纳米软压印的大面积高度有序多孔氧化膜的制备方法有效
| 申请号： | 201610293310.6 | 申请日： | 2016-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN105926014B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李东栋;许贞;李温超;张驰;陈小源;鲁林峰;殷敏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海高等研究院 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 唐棉棉 |
| 地址： | 201210 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 压印 大面积 高度 有序 多孔 氧化 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
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