[发明专利]四斜面阵列可展结构和发泡板材及其制备方法在审
| 申请号： | 201610298096.3 | 申请日： | 2016-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN105754321A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 姜开宇;宋涛;赵骥 | 申请（专利权）人： | 微刻（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | C08L75/04 | 分类号： | C08L75/04;C08L63/00;C08L101/00;C08K7/06 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 刘洪勋 |
| 地址： | 100082 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 斜面 阵列 结构 发泡 板材 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种四斜面阵列可展结构，其特征在于：由若干个单元结构四方连续构成，所述单元结构的长度折叠半角和宽度折叠半角均为大于0°而小于180°，该结构几何展开后为一完整平面。
2.如权利要求1所述四斜面阵列可展结构，其特征在于：采用碳纤维、金属或塑料板材或片材制作而成。
3.一种发泡板材，其特征在于：以四斜面阵列可展结构为芯材制作而成。
4.如权利要求3所述发泡板材，其特征在于：所述四斜面阵列可展结构的两侧填充泡沫材料。
5.如权利要求4所述发泡板材，其特征在于：所述泡沫材料层外包覆有复合材料或金属材料蒙皮。
6.一种发泡板材的制备方法，包括以下步骤：
⑴、对芯材材料进行热压，制成四斜面阵列可展结构；
⑵、对四斜面阵列可展结构的两侧面空隙进行发泡填充，得到发泡板材。
7.如权利要求6所述制备方法，其特征在于：对发泡板材进行蒙皮处理。
8.如权利要求7所述制备方法，其特征在于：蒙皮处理与发泡填充同时进行。
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