[发明专利]金属光栅偏光片及其制作方法

权利要求书

1.一种金属光栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供金属衬底(100)，在金属衬底(100)上表面涂覆一层光胶(300)；

步骤2、提供压印模板(500)，将压印模板放置在光胶(300)上进行纳米压印，使金属衬底(100)上的光胶(300)形成间隔排布的数条第一光阻条(310)和数条第二光阻条(320)，其中，第一光阻条(310)的高度大于第二光阻条(320)的高度；

步骤3、移去压印模板(500)，以光胶(300)为遮蔽层，对金属衬底(100)进行干法蚀刻，在金属衬底(100)上形成数条金属光栅，所述金属光栅分为第一线栅(21)和第二线栅(22)，其中第一线栅(21)对应所述第一光阻条(310)形成，第二线栅(22)对应所述第二光阻条(320)形成，得到包括基板(10)、及基板(10)上的数条金属光栅的金属光栅偏光片；

其中，数条第一线栅(21)和数条第二线栅(22)在基板(10)上交错设置且呈周期排列，所述第一线栅(21)具有第一高度H1，所述第二线栅(22)具有第二高度H2，所述第一线栅(21)和第二线栅(22)的高度关系满足(H1-H2)/H1>10％。

2.如权利要求1所述的金属光栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述金属光栅的宽度在20-150nm之间，相邻两金属光栅之间的距离在20-150nm之间。

3.如权利要求1所述的金属光栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述数条金属光栅在基板(10)上为等间隔设置。

4.如权利要求1所述的金属光栅偏光片的制作方法，其特征在于，每一第一线栅(21)与一个第二线栅(22)交错设置。

5.如权利要求1所述的金属光栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述步骤2提供的压印模板(500)具有数条第一光栅凹槽(510)和数条第二光栅凹槽(520)，所述第一光栅凹槽(510)的深度大于第二光栅凹槽(520)的深度，所述第一光阻条(310)、第二光阻条(310)分别对应第一光栅凹槽(510)、第二光栅凹槽(520)形成；所述步骤3还包括，在干法蚀刻后去除剩余的光胶(300)，在形成的数条金属光栅上涂布形成一层缓冲层(30)，所得到金属光栅偏光片还包括设于所述基板(10)、及数条金属光栅上的缓冲层(30)。