[发明专利]一种抛光复合机床及抛光方法

权利要求书

1.一种抛光复合机床，其特征在于：所述的抛光复合机床包括运动平台（1）、循环系统（5）、磁流变抛光装置、射流抛光装置和控制器（6），光学元件（11）安装在所述的运动平台（1）上，在运动平台（1）的带动下，光学元件（11）在水平面上移动，磁流变抛光装置或射流抛光装置在控制器（6）的控制下对光学元件（11）的表面抛光，循环系统（5）为磁流变抛光装置循环提供抛光液A，为射流抛光装置循环提供抛光液B或水；所述的控制器控制运动平台（1）的运动和磁流变循环系统、射流循环系统的工作顺序；

所述的循环系统（5）包括磁流变循环系统和射流循环系统；所述的磁流变循环系统的抛光液A从磁流变储液罐（15）流出经磁流变回路（17）到达磁流变抛光头（3）抛光光学元件（11），经磁流变抛光头（3）回收至磁流变储液罐（15）；所述的射流循环系统的抛光液B从射流储液罐（16）流出经射流回路（18）到达射流喷嘴（4）抛光光学元件（11），经回收罩（12）回收至射流储液罐（16）；所述的射流循环系统的水从清水池（13）流出经射流回路（18）到达射流喷嘴（4）清洗光学元件（11），经回收罩（12）回收至废液池（14）。

2.根据权利要求1所述的抛光复合机床，其特征在于，所述的磁流变抛光装置和射流抛光装置分别固定在Z1轴（9）和Z2轴（10）上，在控制器（6）的控制下沿Z向上下运动，分别移动至抛光位置。

3.根据权利要求1所述的抛光复合机床，其特征在于，射流抛光装置固定在磁流变抛光装置上的支撑横梁（31）上，磁流变抛光装置和射流抛光装置分别固定在Z1轴（9）和Z2轴（10）上，磁流变抛光装置带动射流抛光装置沿Z1轴（9）方向运动，射流抛光装置独立沿Z2轴（10）方向和支撑横梁（31）的水平方向运动，磁流变抛光装置和射流抛光装置在控制器（6）的控制下移动至抛光位置。

4.根据权利要求1所述的抛光复合机床，其特征在于，所述的回收罩（12）的口径上大下小，抛光液B或水沿壁面自然流下。

5.根据权利要求1所述的抛光复合机床，其特征在于，所述的运动平台（1）包括X轴（7）、Y轴（8）和旋转轴，光学元件（11）在运动平台（1）的水平面上进行X、Y方向平移和绕Z向旋转运动。

6.一种抛光复合机床的多级抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

6a.控制器（6）的阀Ⅰ（20）接通磁流变储液罐（15），阀Ⅱ（21）接通磁流变喷嘴（22），阀Ⅲ（25）接通磁流变储液罐（15）；

6b.控制器（6）的阀Ⅳ（27）接通射流储液罐（16），阀Ⅴ（28）接通射流喷嘴（4），阀Ⅵ（30）接通射流储液罐（16）；

6c.控制器（6）控制运动平台（1）将光学元件（11）移动至抛光位置；

6d.控制器（6）控制磁流变抛光装置移动至抛光位置；

6e.控制器（6）控制磁流变抛光头（3）转动，打开传送泵Ⅰ（19），将抛光液A传送至磁流变抛光头（3）上，对光学元件（11）抛光；

6f.控制器（6）移开磁流变抛光装置，控制射流抛光装置移动至抛光位置；

6g.控制器（6）打开传送泵Ⅱ（26），将抛光液B传送至射流喷嘴（4）上，对光学元件（11）抛光；

6h.控制器（6）移开射流抛光装置；

6i.控制器（6）控制阀Ⅰ（20）接通清水池（13），阀Ⅱ（21）接通阀Ⅲ（25），阀Ⅲ（25）接通废液池（14），阀Ⅳ（27）接通清水池（13），阀Ⅴ（28）接通阀Ⅵ（30）、阀Ⅵ（30）接通废液池（14），打开传送泵Ⅰ（19）和传送泵Ⅱ（26），用水清洗磁流变回路（17）中残留的抛光液A和射流回路（18）中残留的抛光液B；

6j.抛光结束，控制器（6）关闭机床。