[发明专利]一种像素单元及其制作方法、阵列基板及显示装置

权利要求书

1.一种像素单元，其特征在于，所述像素单元包括：

晶体管；

所述晶体管的漏极上形成有第一底层导电层，所述第一底层导电层覆盖所述漏极的整个顶面及各个侧面；

所述晶体管和所述第一底层导电层上形成有平坦层，所述平坦层上设有过孔；

所述平坦层上形成有金属层，所述金属层通过所述过孔与所述第一底层导电层电连接；

所述晶体管的源极与所述平坦层之间形成有第二底层导电层，所述第二底层导电层覆盖所述晶体管的源极的整个顶面及各个侧面；

所述第一底层导电层与所述第二底层导电层通过一次构图工艺同时形成，且所述第一底层导电层与所述第二底层导电层是通过形成所述晶体管的源极、与源极相连的数据线和漏极时使用的掩膜板形成的；

与所述晶体管的栅极相连的栅线上形成有第三底层导电层，所述第三底层导电层覆盖所述栅线。

2.根据权利要求1所述的像素单元，其特征在于，

所述第二底层导电层还覆盖与所述晶体管的源极相连的数据线。

3.根据权利要求1或2所述的像素单元，其特征在于，所述金属层为金属银层。

4.根据权利要求1或2所述的像素单元，其特征在于，

所述金属层上形成有顶层导电层，所述顶层导电层覆盖所述金属层。

5.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板和在所述衬底基板上设置的至少一个如权利要求1-4任一项权利要求所述的像素单元。

6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求5所述的阵列基板。

7.一种像素单元的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成晶体管；

在所述晶体管的漏极上形成第一底层导电层，所述第一底层导电层覆盖所述漏极的整个顶面及各个侧面；

在所述晶体管和所述第一底层导电层上形成平坦层，在所述平坦层上形成过孔；

在所述平坦层上形成金属层，所述金属层通过所述过孔与所述第一底层导电层电连接；

在所述晶体管的源极与所述平坦层之间形成第二底层导电层，所述第二底层导电层覆盖所述晶体管的源极的整个顶面及各个侧面；

所述第一底层导电层与所述第二底层导电层通过一次构图工艺同时形成，且所述第一底层导电层与所述第二底层导电层是通过形成所述晶体管的源极、与源极相连的数据线和漏极时使用的掩膜板形成的；

形成第三底层导电层，所述第三底层导电层与所述第一底层导电层通过所述一次构图工艺形成，所述第三底层导电层覆盖与所述晶体管的栅极相连的栅线。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在所述晶体管的漏极上形成第一底层导电层，包括：

在所述晶体管上形成导电层；

对所述导电层通过一次构图工艺在所述晶体管的漏极上形成第一底层导电层。

9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述第二底层导电层还覆盖与所述晶体管的源极相连的数据线。

10.根据权利要求7-9任一项权利要求所述的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述金属层上形成顶层导电层，所述顶层导电层覆盖所述金属层。