[发明专利]二维角分布质子谱仪

权利要求书

1.一种二维角分布质子谱仪，包括依次设置的质子筛选装置、电磁场装置以及质子探测装置，其特征在于，质子筛选装置包括二维点阵结构的入射孔阵列；

入射孔阵列绕圆心旋转一定角度，使每个入射孔的不同谱线错开。

2.根据权利要求1所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，电磁场装置包括平行磁铁，平行磁铁所产生磁场的磁场方向与入射孔阵列的法向方向相互垂直。

3.根据权利要求2所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，入射质子从所述入射孔阵列进入所述磁场后，在磁场的作用下发生偏转，由质子探测装置探测质子并测得质子的能谱和二维空间分布信息。

4.根据权利要求1所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，在质子筛选装置与质子探测装置之间不施加电场。

5.根据权利要求2所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，入射孔阵列绕圆心旋转的角度θ为15°，其中，所述角度θ是x方向与入射孔阵列的行方向或者列方向之间的夹角,x方向为磁铁N极指向S极方向。

6.根据权利要求1所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，入射孔阵列中入射孔直径为0.25mm，两个相邻的入射孔间距为2mm，总共包含11行*11列个入射孔。

7.根据权利要求2所述的二维角分布质子谱仪，其特征在于，平行磁铁之间的间隙为40mm，所述磁场中心处的磁感应强度为0.26特斯拉，所述入射孔阵列与金属靶上打靶点的距离为60mm，平行磁铁的延伸距离为50mm。