[发明专利]改进的多晶太阳电池的扩散工艺有效
申请号: | 201610330027.6 | 申请日: | 2015-01-12 |
公开(公告)号: | CN105870217B | 公开(公告)日: | 2017-05-17 |
发明(设计)人: | 朱金浩;蒋剑波;王猛;许布;万光耀;陈珏荣;高非;朱庆庆 | 申请(专利权)人: | 浙江光隆能源科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/18;H01L21/223 |
代理公司: | 嘉兴永航专利代理事务所(普通合伙)33265 | 代理人: | 蔡鼎 |
地址: | 314406 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 多晶 太阳电池 扩散 工艺 | ||
技术领域
本发明属于太阳能电池技术领域,涉及一种改进的多晶太阳电池的扩散工艺。
背景技术
传统多晶太阳电池的生产工序主要为:制绒、扩散、湿法刻蚀、PE镀膜、烘干、印刷背场、烘干、印刷背极、印刷正极、烧结和测试分选。扩散工序直接影响着多晶太阳电池的开路电压,其主要影响因素为扩散表面掺杂浓度,表面掺杂浓度高会引起重掺杂效应。重掺杂效应会引起禁带宽度收缩,影响本征载流子浓度,影响有效掺杂浓度和降低少子寿命。在硅晶体中,由于重掺杂会引起能带结构的变化,在能带的边缘形成所谓的“带尾”。禁带宽度收缩必然会导致开路电压的损失,最终导致效率的降低。另外重掺杂会使前表面的有效掺杂浓度降低二个数量级,因此,减少了顶区表面处的开路电压,且在前表面区0.1微米左右的范围内,越靠近表面,有效掺杂浓度也越低,形成一个衰退电场。这种衰退电场阻止少子空穴往P-N结边界方向移动。这是重掺杂太阳电池中顶区表面产生“死层”的一种原因。“死层”处的复合速率非常高,会很大程度的降低载流子的寿命。为了获得最佳的电池性能,必须选择适当的扩散顶区掺杂浓度,使这一浓度不至于引起衰退电场。
在实际生产过程中,采用现有技术中的一步扩散法的太阳能电池的转换效率普遍偏低。
发明内容
本发明的第一个目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种多晶太阳电池,该多晶太阳电池具有封装损耗低的特点。
本发明的第一个目的可通过下列技术方案来实现:一种多晶太阳电池,它包括呈板状的本体,所述本体的一侧为正极,所述本体的另一侧为负极,所述正极上均布有4条主栅和90条细栅,所述主栅与细栅垂直设置且它们电连接,其特征在于,所述每条主栅之间的间距为35—42毫米,所述主栅的宽度为0.8—1.2毫米,所述细栅间距为1.4—2.0毫米,所述细栅的宽度为0.035—0.045毫米。
采用以上结构,采用4条主栅和90条细栅的密栅设计,使得成品开路电压比常规多晶太阳电池高,同时,避免了由于扩散方阻提升而导致的串联电阻上升,且在封装组件时能降低封装损耗。
所述的主栅由若干段主栅段纵向排列均布设置。
所述每个主栅段的长度为7—11毫米。
所述细栅的长度为152—158毫米。
本发明的第二个目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种改进的多晶太阳电池的扩散工艺,该扩散工艺具有多晶太阳电池转化率高的特点。
本发明的第二个目的可通过下列技术方案来实现:一种改进的多晶太阳电池的扩散工艺,该工艺包括以下步骤:
A、低温沉积:将本体置入普通的扩散炉中,扩散炉中温度在750—790℃保持6—12分钟,在该时间范围内向扩散炉内通入大氮、氧气和小氮的混合气体,所述大氮与氧气体积比为16:1,所述小氮和大氮与氧气两者混合气体的体积比为12:100;
B、变温沉积:将扩散炉内的温度在6—10分钟内提升至800—820℃,在该时间范围内向扩散炉内通入大氮、氧气和小氮的混合气体,所述大氮与氧气体积比为18:1,所述小氮和大氮与氧气两者混合气体的体积比为14:100;
C、高温沉积:在825—835℃进行1—4分钟的保温,这个过程中向扩散炉内通入大氮、氧气和小氮的混合气体,所述大氮与氧气体积比为15:1,所述小氮和大氮与氧气两者混合气体的体积比为12:100;
D、升温:将8—10分钟内将扩散炉内的温度升至845℃,升温过程中向扩散炉内通入大氮;
E、高温推结:待扩散炉内在850℃温度时稳定后,在10—14分钟内向扩散炉内通入大氮和氧气的混合气体,所述氧气占上述混合气体体积的36%—38%;
F、冷却:在12—14分钟内将扩散炉内的温度降至770℃,这个过程中向扩散炉内通入大氮、氧气的混合气体,所述氧气占上述混合气体体积的34%—36%。
所述扩散炉内的气体流量恒定。
所述扩散炉内的气体通入流量为7L/min—10L/min。
所述小氮流量为2L/min~2.8L/min,所述氧气的流量为0.4L/min~0.8L/min,所述大氮的流量为7.2L/min~7.7L/min。
所述步骤A中所述小氮流量为2L/min,所述氧气的流量为0.4L/min,所述大氮的流量为7.3L/min。
所述步骤B中所述小氮流量为2.8L/min,所述氧气的流量为0.7L/min,所述大氮的流量为7.5L/min。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的