[发明专利]一种片状液相纳米颗粒制备方法在审
申请号: | 201610333421.5 | 申请日: | 2016-05-17 |
公开(公告)号: | CN107381498A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 边捷 | 申请(专利权)人: | 边捷 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210048 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 片状 纳米 颗粒 制备 方法 | ||
1.一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征是包括如下步骤:
步骤1)在平整衬底上沉积可溶解的牺牲层薄膜材料;
步骤2)再在牺牲层上沉积功能材料;
步骤3)在功能材料层上沉积并制备聚合物材料的纳米图案;
步骤4)以聚合物材料的纳米图案作为刻蚀掩模,利用刻蚀技术将纳米图案转移到下层的功能材料层上,再用刻蚀技术除去多余的聚合物材料;
步骤5)利用合适的液体将牺牲层溶解,同时得到液相的片状功能材料纳米颗粒,颗粒形状与纳米图案一致。
2.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤1)的平整衬底为硅片,石英片,玻璃片,平整聚合物膜片。
3.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述的步骤1)的牺牲层薄膜材料为可溶解的聚合物,氧化物,金属材料,其沉积方式为旋转涂膜,热蒸发沉积,外延生长,化学气相沉积,物理气相沉积。
4.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤2)的功能材料为金属,金属氧化物,石墨烯,二维薄膜材料,半导体材料,聚合物材料或复合材料;功能材料层是上述材料的一层或多层组合而成,其沉积方式为旋转涂膜,热蒸发沉积,外延生长,化学气相沉积或物理气相沉积;功能材料层的厚度为在0.1-50000纳米之间。
5.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤3)的的聚合物纳米图案制备技术为纳米压印技术,光刻技术,相分离技术或自组装技术;聚合物材料为纳米压印胶,光刻胶,可相分离的嵌段聚合物或聚合物纳米微球。
6.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤3)的聚合物纳米图案的线宽在5-50000纳米之间,图案形状可以是任意二维平面图案。
7.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述的步骤4)的刻蚀技术为等离子体刻蚀,离子束刻蚀,湿法刻蚀或电化学刻蚀。
8.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述的步骤5)的溶解液体为水,水溶液,有机液体,有机溶液;溶解方法为浸泡,震荡或超声。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于边捷,未经边捷许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610333421.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。