[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201610347859.9 | 申请日: | 2016-05-23 |
公开(公告)号: | CN106896467B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 赖建勋;刘耀维;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18;H04N5/225 |
代理公司: | 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 | 代理人: | 肖鹂;王君 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:
第一透镜,具有屈光力;
第二透镜,具有正屈光力;
第三透镜,具有屈光力;
第四透镜,具有屈光力;以及
成像面;
其中所述光学成像系统具有屈光力的透镜为四枚,所述第一透镜、所述第三透镜、所述第四透镜中至少一个透镜具有正屈光力,并且所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面在光轴上具有距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第四透镜像侧面在光轴上具有距离InTL,所述第四透镜像侧面的最大有效直径为PhiA4,所述第一透镜至所述第四透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.0;1.3914≤HOS/f≤2.1985;0.8908≤PhiA4/InTL≤1.1653;以及99.81%≤2(ARE/HEP)≤111.62%。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统在结像时的TV畸变为TDT,可见光频谱在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,所述光学成像系统的正向子午面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇的最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇的最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处的横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≤100微米;PSTA≤100微米;NLTA≤100微米;NSTA≤100微米;SLTA≤100微米;以及SSTA≤100微米;│TDT│<100%。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜至所述第四透镜中任一透镜的任一表面的最大有效半径以EHD表示,所述第一透镜至所述第四透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面的最大有效半径处为终点,前述两点间的轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.1≤ARS/EHD≤2.0。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统的可视角度的一半为HAF,其满足下列公式:0deg<HAF≤100deg。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列公式:0mm<HOS≤15mm。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜的物侧表面在光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE41,所述第四透镜的像侧表面在光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为止,前述两点间的轮廓曲线长度为ARE42,第四透镜在光轴上的厚度为TP4,其满足下列条件:0.5≤ARE41/TP4≤20;以及0.5≤ARE42/TP4≤20。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:0<PhiA4/HEP≤4.0。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,其满足下列公式:0<PhiA4/2HOI≤2.0。
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