[发明专利]一种耐划伤透明膜及其制备方法

权利要求书

1.一种耐划伤透明膜，包括依次覆盖在基材(1)上的AR膜层(2)和AF膜层(3)，所述AR膜层(2)包括至少一层高折射率层(21)和至少一层低折射率层(22)，且所述耐划伤透明膜上紧贴AF膜层(3)设置的一层为低折射率层(22)；

其中至少有一层高折射率层(21)为包含四层以上子层的复合交替膜层，所述复合交替膜层的子层为选自TiO₂层、ZrO₂层、La₂O₃层、Ta₂O₅层、HfO₂层、Si₃N₄层、AlON层、AlN层、Nb₂O₅层、ZnO层、SnO₂层、In₂O₃层和InSnO层中的两种或三种，因而复合交替膜层中第一子层a(211)和第二子层b(212)的数量均为2以上而形成abab型交替结构，或第一子层a(211)、第二子层b(212)和第三子层c的数量均为2以上而形成abcabc型的交替结构；且所述复合交替膜层中的子层的膜厚度均为2.5～20nm；

所述低折射率层为SiO₂层或低折射率层中包含SiO₂子层，低折射率层中的其它子层为选自MgF₂层、NaF层和Al₂O₃层中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述耐划伤透明膜，其特征在于，所述高折射率层(21)或所述低折射率层(22)为包含两层以上不同子层的复合膜层时，每个子层的膜厚度均为2.5～20nm。

3.根据权利要求2所述耐划伤透明膜，其特征在于，每个子层的膜厚度均为2.8～8nm，优选3～7nm，更优选4～6nm。

4.根据权利要求1所述耐划伤透明膜，其特征在于，复合交替膜层中至少有一子层为选自Si₃N₄层、AlON层和AlN层中的一种。

5.根据权利要求4所述耐划伤透明膜，其特征在于，复合交替膜层为abab型交替结构，且第一子层a和第二子层b均为选自Si₃N₄层、AlON层和AlN层中的一种。

6.根据权利要求1所述耐划伤透明膜，其特征在于，所述高折射率层(21)和低折射率层(22)的总层数为6～12层，且高折射率层(21)和低折射率层(22)交替设置。

7.根据权利要求1所述耐划伤透明膜，其特征在于，所述基材(1)为玻璃、蓝宝石或陶瓷，所述AF膜层(3)为含氟有机物膜层。

8.根据权利要求1～7中任意一项所述耐划伤透明膜，其特征在于，低折射率层中包含SiO₂子层时，低折射率层中的其它1～2种子层与SiO₂子层交替设置，且紧贴AF膜层(3)设置的一层为SiO₂子层。

9.根据权利要求1～7中任意一项所述耐划伤透明膜，其特征在于，低折射率层为SiO₂层时，低折射率层在AR膜层中的总层数为2层以上，优选为3层以上。

10.一种如权利要求1～9中任意一项所述耐划伤透明膜的制备方法，其特征在于，透明膜中的膜层或子膜层通过溅射镀膜、蒸发镀膜、化学气相沉积法以及原子层沉积法中的一种或多种方法得到。