[发明专利]一种耐划伤透明膜及其制备方法有效
申请号: | 201610349436.0 | 申请日: | 2016-05-24 |
公开(公告)号: | CN107422402B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 周群飞;饶桥兵;郭射宇 | 申请(专利权)人: | 蓝思科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;G02B1/18;G02B1/14 |
代理公司: | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 欧颖 |
地址: | 410329 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 划伤 透明 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐划伤透明膜,包括依次覆盖在基材(1)上的AR膜层(2)和AF膜层(3),所述AR膜层(2)包括至少一层高折射率层(21)和至少一层低折射率层(22),且所述耐划伤透明膜上紧贴AF膜层(3)设置的一层为低折射率层(22);
其中至少有一层高折射率层(21)为包含四层以上子层的复合交替膜层,所述复合交替膜层的子层为选自TiO2层、ZrO2层、La2O3层、Ta2O5层、HfO2层、Si3N4层、AlON层、AlN层、Nb2O5层、ZnO层、SnO2层、In2O3层和InSnO层中的两种或三种,因而复合交替膜层中第一子层a(211)和第二子层b(212)的数量均为2以上而形成abab型交替结构,或第一子层a(211)、第二子层b(212)和第三子层c的数量均为2以上而形成abcabc型的交替结构;且所述复合交替膜层中的子层的膜厚度均为2.5~20nm;
所述低折射率层为SiO2层或低折射率层中包含SiO2子层,低折射率层中的其它子层为选自MgF2层、NaF层和Al2O3层中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述耐划伤透明膜,其特征在于,所述高折射率层(21)或所述低折射率层(22)为包含两层以上不同子层的复合膜层时,每个子层的膜厚度均为2.5~20nm。
3.根据权利要求2所述耐划伤透明膜,其特征在于,每个子层的膜厚度均为2.8~8nm,优选3~7nm,更优选4~6nm。
4.根据权利要求1所述耐划伤透明膜,其特征在于,复合交替膜层中至少有一子层为选自Si3N4层、AlON层和AlN层中的一种。
5.根据权利要求4所述耐划伤透明膜,其特征在于,复合交替膜层为abab型交替结构,且第一子层a和第二子层b均为选自Si3N4层、AlON层和AlN层中的一种。
6.根据权利要求1所述耐划伤透明膜,其特征在于,所述高折射率层(21)和低折射率层(22)的总层数为6~12层,且高折射率层(21)和低折射率层(22)交替设置。
7.根据权利要求1所述耐划伤透明膜,其特征在于,所述基材(1)为玻璃、蓝宝石或陶瓷,所述AF膜层(3)为含氟有机物膜层。
8.根据权利要求1~7中任意一项所述耐划伤透明膜,其特征在于,低折射率层中包含SiO2子层时,低折射率层中的其它1~2种子层与SiO2子层交替设置,且紧贴AF膜层(3)设置的一层为SiO2子层。
9.根据权利要求1~7中任意一项所述耐划伤透明膜,其特征在于,低折射率层为SiO2层时,低折射率层在AR膜层中的总层数为2层以上,优选为3层以上。
10.一种如权利要求1~9中任意一项所述耐划伤透明膜的制备方法,其特征在于,透明膜中的膜层或子膜层通过溅射镀膜、蒸发镀膜、化学气相沉积法以及原子层沉积法中的一种或多种方法得到。
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