[发明专利]一种基于单壁碳纳米角修饰电极的电化学酶传感器制备及应用有效

专利信息
申请号: 201610358935.6 申请日: 2016-05-27
公开(公告)号: CN105784825B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 孙伟;闫丽君;文作瑞;牛学良;李晓燕;王文成;史艳 申请(专利权)人: 海南师范大学;海南青科达科技有限公司
主分类号: G01N27/48 分类号: G01N27/48
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 于跃
地址: 571158 *** 国省代码: 海南;46
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单壁碳纳米 酶传感器 修饰电极 制备 电化学 应用 电子扫描显微镜 示差脉冲伏安法 直接电化学行为 修饰碳糊电极 电化学手段 对电极表面 循环伏安法 红外光谱 基底电极 肌红蛋白 离子液体 三氯乙酸 修饰材料 亚硝酸钠 电催化 傅里叶 壳聚糖 传感器 滴涂 构建 研究
【说明书】:

发明公开了一种基于单壁碳纳米角修饰电极的电化学酶传感器制备及应用。以离子液体修饰碳糊电极(CILE)作为基底电极,采用滴涂法将单壁碳纳米角(SWCNHs)、肌红蛋白(Mb)和壳聚糖(CTS)依次固定在CILE表面,制备酶传感器CTS/Mb/SWCNHs/CILE。利用电子扫描显微镜(SEM)、傅里叶红外光谱(FT‑IR)等技术对电极表面的修饰材料进行表征。采用循环伏安法和示差脉冲伏安法等电化学手段研究了Mb在修饰电极界面上的直接电化学行为,以及所构建传感器对三氯乙酸和亚硝酸钠的电催化行为的实际应用。

技术领域

本发明涉及电化学、电分析化学方面的化学修饰电极领域,以及电化学酶传感器领域。

背景技术

1975年化学修饰电极的问世,突破了传统电化学只限于研究裸电极/电解液界面的范围,开创了从化学形态上人为控制电极表面结构的领域。化学修饰电极是由导体或半导体制作的电极,在电极表面涂敷了单分子的、多分子的、离子的或聚合物的化学物薄膜,借Faratary(电荷消耗)反应而呈现出此修饰薄膜的化学的、电学的或光学的性质。化学修饰电极丰富了电化学的电极材料,其变化奥妙无穷,电极由此带来的奇特效应及潜在的应用价值引起了人们广泛的研究兴趣,很快吸引了化学家从不同角度进行研究,推进了化学修饰电极的迅速发展。

目前电化学酶传感器已发展到第三代,具有简单便携、灵敏度高、检测范围广和检测限低等优点。其原理是以无媒介体的氧化还原蛋白质和酶的直接电化学行为为基础,以酶与电极之间的直接电子转移为检测特征的新型生物传感器,这种传感器无需引入媒介体,与氧及其他电子媒介体无关,因此制作过程相对简单,无外加有毒性物质,是当前最理想的生物传感器。近年来以氧化还原蛋白质直接电化学为基础的第三代无媒介体传感器成为电化学生物传感器研究领域的最重要的发展方向之一。

碳材料具有低成本、宽电位窗口、相对惰性的性能、电催化作用等特点,碳材料电极在电化学方面已经得到了广泛关注。单壁碳纳米角(SWCNHs)是一种新型导电单壁碳纳米管材料,具有大的比表面积和较大的内部空间,气体和液体都很容易浸透到其内部,这些奇异的特性使得它非常适合于用作化学反应的催化剂。目前SWCNHs被广泛的应用在吸附和存储气体、催化剂载体、药物载体、气体传感器、生物传感器和电化学储能等方面。

发明内容

本发明克服了前两代酶传感器的诸多问题,例如线性范围窄、受测定体系的限制、使用介体制作电极过程复杂,且介体有可能污染电极等,通过将肌红蛋白固定在SWCNHs修饰电极表面,制备出第三代电化学生物传感器。

为了实现上述任务,本发明采取如下的技术解决方案:

1. 一种基于单壁碳纳米角修饰电极的电化学酶传感器制备,其特征在于,包括以下步骤:

(1)离子液体修饰碳糊电极的制备

按一定的比例将石墨粉、离子液体和液体石蜡充分混合研磨后,装入内插细铜丝的玻璃电极管内压实,即得离子液体修饰碳糊电极(CILE),使用前在抛光纸上打磨至镜面;

(2)修饰电极的制备

采用滴涂法将单壁碳纳米角(SWCNHs)修饰在CILE表面,室温晾干后在其表面进一步滴涂肌红蛋白(Mb),室温晾干后将固定膜壳聚糖(CTS)修饰在电极Mb/SWCNHs/CILE表面,室温晾干待用。按照同样方法制备CTS/CILE、CTS/SWCNHs/CILE、CTS/Mb/CILE等不同修饰电极。

所述的离子液体修饰碳糊电极,其特征在于,离子液体为N-己基吡啶六氟磷酸盐(HPPF6),其与石墨粉的质量均为0.8 g,液体石蜡的用量为250 µL。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海南师范大学;海南青科达科技有限公司,未经海南师范大学;海南青科达科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610358935.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top