[发明专利]一种间隙测量尺有效

专利信息
申请号: 201610371316.0 申请日: 2016-05-30
公开(公告)号: CN105783667B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 肖亮;丁冬;张勋泽;丁文兵;关召军;宣增志 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: G01B5/14 分类号: G01B5/14
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 间隙 测量
【说明书】:

发明涉及测量设备领域,公开一种间隙测量尺,包括主尺身,主尺身具有与其延伸方向平行的底面、和位于其一端且与其延伸方向垂直的第一测量面,主尺身上设有沿其延伸方向分布的主刻度线;副尺身,副尺身的一端形成与其延伸方向垂直的第二测量面,副尺身的延伸方向与主尺身的延伸方向平行;副尺身可沿其延伸方向滑动地安装于主尺身,且副尺身形成第二测量面的一端可自主尺身形成第一测量面的端面伸出主尺身。本发明提供的间隙值测量尺在进行测量作业时,可提高主尺身的延伸方向与待测间隙的宽度方向之间的平行度,降低主观误差,使测量值更为精准,提高测量操作效率。

技术领域

本发明涉及测量设备领域,特别涉及一种间隙测量尺。

背景技术

如图1a所示,在真空镀膜设备中,玻璃基板01由安装引导单元02和顶针03夹持。参见图1b所示,在装载时玻璃基板时,需调整玻璃基板01的边缘与引导单元02之间的距离G1,以避免在传送过程中玻璃基板01与引导单元02发生磕碰而造成破片,因此,需准确测量玻璃基板01的边缘到引导单元02之间的距离G1,以作为调整过程的参考。

同时,如图1a所示,在真空镀膜设备中,载盘和靶材之间设有利于成膜的悬浮掩膜板04。玻璃基板01所在平面到悬浮掩膜板04所在平面之间的距离G2是成膜的一项重要参数,其大小将直接影响玻璃基板01周边的膜厚,从而影响膜层的均一性、方块电阻等重要指标,因此,在溅射成膜过程中需准确测量玻璃基板01所在平面到悬浮掩膜板04所在平面之间的距离G2。

目前,常采用直尺测量玻璃基板01边缘与引导单元02之间的距离G1和玻璃基板01所在平面到悬浮掩膜板04所在平面之间的距离G2,由于玻璃基板01边缘与引导单元02之间没有相对的表面、玻璃基板01所在平面到悬浮掩膜板04所在平面之间没有相对的表面,且真空磁控镀膜设备中的测量空间有限,采用直尺测量时主观误差较大,降低了测量的准确性。

发明内容

本发明提供了一种间隙测量尺,该间隙测量尺在测量玻璃基板边缘与引导单元之间的距离和玻璃基板所在平面到悬浮掩膜板所在平面之间的距离时,可减少测量的主观误差,提高测量的准确性和测量操作的效率。

为实现上述目的,本发明提供如下的技术方案:

一种间隙测量尺,包括:

主尺身,所述主尺身具有与其延伸方向平行的底面、和位于其一端且与其延伸方向垂直的第一测量面,所述主尺身上设有沿其延伸方向分布的主刻度线;

副尺身,所述副尺身的一端形成与其延伸方向垂直的第二测量面,所述副尺身的延伸方向与所述主尺身的延伸方向平行;

所述副尺身可沿其延伸方向滑动地安装于所述主尺身,且所述副尺身形成所述第二测量面的一端可自所述主尺身形成所述第一测量面的端面伸出所述主尺身。

本发明提供的间隙测量尺在进行测量作业时,将主尺身上的第一测量面抵住形成待测间隙、且位于间隙的一侧的物体,并将主尺身的底面搭在形成待测间隙、且位于间隙另一侧的物体上;在形成待测间隙、且位于间隙的一侧的物体具有与间隙平行的表面,且形成待测间隙、且位于间隙另一侧的物体具有与间隙垂直的表面时,因主尺身的底面与第一测量面垂直,可使主尺身的延伸方向与待测间隙保持垂直;在形成待测间隙、且位于间隙的一侧的物体不具有与间隙平行的表面,且形成待测间隙、且位于间隙另一侧的物体不具有与间隙垂直的表面时,滑动副尺身使第二测量面伸出主尺身并抵住副尺身前端物体与所测间隙相平行的平面,因主尺身和副尺身的延伸方向平行,且底面平行于主尺身的延伸方向,第一测量面垂直于主尺身的延伸方向、第二测量面垂直于副尺身的延伸方向,则第二测量面抵住与间隙平行的平面后,可使主尺身的延伸方向与待测间隙保持垂直;因此,该间隙测量尺提高了测量精度,降低了测量时的主观误差,读取主尺身与其所搭物体相交位置处的主刻度线的读数即为间隙值。

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