[发明专利]磁控管及磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201610371827.2 | 申请日： | 2016-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN107447195B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰;张禄禄 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 孙向民 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控管 磁控溅射 系统 | ||
1.一种磁控管，包括内磁极和外磁极，所述外磁极围绕所述内磁极，所述外磁极与所述内磁极的磁极方向相反，
其特征在于，所述磁控管还包括：
辅助磁组，所述辅助磁组包括多个磁柱，所述多个磁柱的磁极方向与所述磁控管的磁极方向相同，所述多个磁柱横向安装在所述内磁极与所述外磁极之间；
设置所述辅助磁组的多个磁柱在所述内磁极与所述外磁极之间的分布方式以调节溅射薄膜的均匀性，所述辅助磁组的多个磁柱的分布方式为均匀分布。
2.根据权利要求1所述的磁控管，其特征在于，所述辅助磁组的多个磁柱放置在支撑件上，通过螺丝将所述支撑件固定在所述内磁极与所述外磁极之间。
3.根据权利要求1所述的磁控管，其特征在于，所述辅助磁组的多个磁柱横向安装在所述内磁极和所述外磁极的下部。
4.根据权利要求3所述的磁控管，其特征在于，所述辅助磁组的多个磁柱的下表面与所述内磁极和所述外磁极的下表面齐平。
5.根据权利要求1-4的任意一项所述的磁控管，其特征在于，所述内磁极和所述外磁极包括多个磁铁，通过孔洞将所述多个磁铁夹持并固定位于所述多个磁铁上端的磁轭和位于所述多个磁铁下端的磁极件中间。
6.根据权利要求5所述的磁控管，其特征在于，所述磁轭和所述磁极件由相同的磁性材料制成。
7.一种磁控溅射系统，其特征在于，所述磁控溅射系统采用如权利要求1-6中任意一项所述的磁控管。
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