[发明专利]一种M2型单晶硅快速收尾方法有效

专利信息
申请号: 201610375078.0 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN105803519B 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 王会敏;何京辉;曹祥瑞;颜超;程志;范晓甫;周子江;赵贝;刘钦;陈二星 申请(专利权)人: 邢台晶龙电子材料有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所13120 代理人: 陆林生
地址: 054001 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 m2 单晶硅 快速 收尾 方法
【权利要求书】:

1.一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,包括前生长、缩径生长和后生长;

所述前生长包括:将坩埚停止上升,单晶上升拉速设定为1.00mm/min,温校速率设定为15-20,收尾开始,至收尾长度达到3mm,再将单晶上升拉速降至0.7 mm/min,温校速率设定为10;

所述缩径生长包括:收尾长度在3-80 mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速并升高温校速率;

所述后生长包括:收尾长度在81mm,将温校速率降低至0,单晶上升拉速提高0.05 mm/min;收尾长度在82-91mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速至1.98 mm/min;收尾长度在91mm之后,保持单晶上升拉速为匀速,待收尾长度达到100mm,将单晶硅棒提断,收尾结束。

2. 根据权利要求1所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,所述缩径生长包括:收尾长度在11-30mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.07 mm/min;收尾长度在31-50mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.11 mm/min;收尾长度在51-60mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.14 mm/min;收尾长度在61-70mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.19 mm/min;收尾长度在71-80mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.20 mm/min。

3.根据权利要求2所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,后生长包括:收尾长度在82-86mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.22 mm/min;收尾长度在87-91mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.30 mm/min。

4.根据权利要求1-3中任一所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,M2型单晶硅用CZ-90单晶炉收尾。

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