[发明专利]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201610377816.5 申请日: 2016-05-31
公开(公告)号: CN106896468B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 赖建勋;刘耀维;张永明 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 代理人: 肖鹂;王君
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:

第一透镜,具有屈光力;

第二透镜,具有屈光力;

第三透镜,具有屈光力;

第四透镜,具有屈光力;以及

成像面;

其中所述光学成像系统具有屈光力的透镜为四枚且所述第一透镜至所述第四透镜中至少一个透镜的至少一个表面具有至少一个反曲点,所述第一透镜至所述第四透镜中至少一个透镜具有正屈光力,并且所述第四透镜的物侧面及像侧面均为非球面,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面与光轴的交点至所述成像面与光轴的交点间在光轴上具有距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第四透镜像侧面在光轴上具有距离InTL,所述第四透镜像侧面的最大有效直径为PhiA4,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度为HOI,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3以及ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜在光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3以及TP4,前述TP1至TP4的总和为STP,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤10;0.5≤HOS/f≤20,0<PhiA4/InTL≤1.4;0.5701≤PhiA4/2HOI≤0.6809;以及0.5≤SETP/STP<1。

2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL<1。

3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP1,所述第二透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP2,所述第三透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP3,所述第四透镜在1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜物侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN≤0.8。

4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统包括滤光元件,所述滤光元件位于所述第四透镜以及所述成像面之间,所述第四透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述滤光元件间平行于光轴的距离为EIR,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述滤光元件间平行于光轴的距离为PIR,其满足下列公式:0.2≤EIR/PIR≤5.0。

5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,可见光频谱在所述成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,在所述成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处在空间频率110cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFQ0、MTFQ3以及MTFQ7表示,其满足下列条件:MTFQ0≥0.3;MTFQ3≥0.2;以及MTFQ7≥0.01。

6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜像侧面上在1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足:0.2≤EBL/BL≤1.1。

7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:0<PhiA4/HEP≤4.0。

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