[发明专利]一种黑硅电池的制作方法和装置有效

专利信息
申请号: 201610388219.2 申请日: 2016-06-02
公开(公告)号: CN105914261B 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 叶飞;蒋方丹;金浩 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 罗满
地址: 314416 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 电池 制作方法 装置
【权利要求书】:

1.一种黑硅电池的制造方法,其特征在于,包括:

步骤1,采用O3部件对P型金刚线硅片进行氧化,所述P型金刚线硅片的四周的O2流过的浓度高于中心区域的O2流过的浓度;

步骤2,对所述P型金刚线硅片进行磷扩散;

其中,所述O3部件用于对P型金刚线硅片进行氧化,包括设置在所述P型金刚线硅片流过处的中央区域的过滤网,所述过滤网用于使得所述P型金刚线硅片的四周的O2浓度高于所述P型金刚线硅片的中央的O2浓度。

2.如权利要求1所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,在所述步骤2之后,还包括:

步骤3,对经过磷扩散的所述P型金刚线硅片的背面进行刻蚀,去除所述P型金刚线硅片上的PSG和边缘pn结;

步骤4,对所述P型金刚线硅片的正面PECVD沉积两层减反射膜。

3.如权利要求2所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,所述P型金刚线硅片的四周的O2流过的浓度高于中心区域的O2流过的浓度为所述P型金刚线硅片的四周的O2浓度为所述P型金刚线硅片的中心区域的O2浓度的120%。

4.如权利要求3所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,所述减反射膜为SiNx薄膜。

5.如权利要求4所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,所述对所述P型金刚线硅片进行氧化包括:

所述P型金刚线硅片的中心处沉积的氧化层的厚度为4nm,所述P型金刚线硅片的四周的氧化层的厚度为5nm。

6.如权利要求5所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,在所述步骤4之后,还包括:

步骤5,在所述P型金刚线硅片的正表面印刷银浆作为正电极、背表面印刷铝浆作为背电场以及印刷银铝浆作为背电极之后,进入烧结炉进行烧结。

7.如权利要求1所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,所述P型金刚线硅片的磷扩散,包括:

采用三氯氧磷液态源,将具有黑硅绒面的P型金刚线硅片在管式扩散炉中进行磷扩散。

8.如权利要求7所述的黑硅电池的制造方法,其特征在于,所述黑硅绒面的P型金刚线硅片的制作工艺包括:

步骤11,对预先选定的P型金刚线硅片进行制绒和清洗处理,形成基本制绒面;

步骤12,对具有所述基本制绒面的P型金刚线硅片进行二次制绒,获得黑硅绒面。

9.一种黑硅电池的制造装置,其特征在于,包括:

O3部件,所述O3部件用于对P型金刚线硅片进行氧化,包括设置在所述P型金刚线硅片流过处的中央区域的过滤网,所述过滤网用于使得所述P型金刚线硅片的四周的O2浓度高于所述P型金刚线硅片的中央的O2浓度。

10.如权利要求9所述的黑硅电池的制造装置,其特征在于,所述过滤网为使得所述P型金刚线硅片的四周的O2浓度为所述P型金刚线硅片的中央的O2浓度的120%的过滤网。

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